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			<div id="main">
				<div class="content">
					<div id="navpath"><strong>http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA9118</strong> </div>
					<div class="scheda"><h1>MAURIZIO PIO IMPRONTA</h1>
<dl><dt>Type</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/persone.owl#Persona' class = 'external' >Persona</a> (Classe)</li></ul></dd><dt>Label</dt><dd><ul><li>MAURIZIO PIO IMPRONTA (literal)</li><li>MAURIZIO PIO IMPRONTA (literal)</li></ul></dd><dt>Subject</dt><dd><ul><li><a href='http://dbpedia.org/resource/Category:Microtechnology' class = 'external' >Microtechnology</a> (Categoria DBpedia)</li><li><a href='http://dbpedia.org/resource/Category:Electronic_engineering' class = 'external' >Electronic engineering</a> (Categoria DBpedia)</li><li><a href='http://dbpedia.org/resource/Category:Semiconductors' class = 'external' >Semiconductors</a> (Categoria DBpedia)</li><li><a href='http://dbpedia.org/resource/Category:Semiconductor_device_fabrication' class = 'external' >Semiconductor device fabrication</a> (Categoria DBpedia)</li></ul></dd><dt>Gestore di</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/modulo/ID6219'>Tecniche di caratterizzazione elettrica ed affidabilistica di dispositivi nanoelettronici e microelettronici ultrascalati (MD.P05.017.002)</a> (Modulo)</li></ul></dd><dt>Partecipa a commessa</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/personale-partecipazioneacommessa/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA9118-COMMESSA5444-ANNO2007'>Partecipazione a Commessa "Sintesi e caratterizzazione di materiali nanostrutturati a base di C e Si per applicazioni in sensoristica e nanoelettronica" (MD.P05.017) di DOTT. MAURIZIO PIO IMPRONTA nell'anno 2007</a> (Partecipazione a commessa)</li></ul></dd><dt>Persona in rapporto</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/rapportoConCNR/MATRICOLA9118'>Employment relationship with CNR of DOTT. MAURIZIO PIO IMPRONTA</a> (Rapporto con CNR)</li></ul></dd><dt>Autore CNR di</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID36271'>Electromigration Reliability Assessment of Cu-based Metallization Systems by a Wafer-Level Approach (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID86869'>Resistance Instability in Cu-damascene Structures during the Isothermal Electromigration Test (Contributo in atti di convegno)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID86894'>FDTD Modeling of Void Defects in VLSI Interconnection (Contributo in atti di convegno)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID149127'>Sistema per prove rapide, a livello wafer, di elettromigrazione con tecnica isoterma (ISOT), particolarmente orientato a misure su strutture Cu-damascene (Progetti)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID183187'>Standard JEDEC JESD61A.01 Isothermal Electromigration Test Procedure (Altro prodotto)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID158182'>Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (Rapporti progetti di ricerca)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID158179'>Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (Rapporti progetti di ricerca)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID180770'>An improved isothermal electromigration test for Cu-damascene characterization (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID86868'>Electromigration Reliability Assessment of Cu-based Metallization Systems by a Wafer-Level Approach (Contributo in atti di convegno)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID180730'>Wide-band modelling of CMOS interconnections and voiding damages with the lumped element LE-FDTD method (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID158180'>Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (Rapporti progetti di ricerca)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID158181'>Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (Rapporti progetti di ricerca)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID36064'>Reliability assessment of multi-via Cu-damascene structures by wafer-level isothermal electromigration tests (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li></ul></dd><dt>Coautore</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID1973'>ANDREA SCORZONI</a> (Persona)</li></ul></dd><dt>Nome</dt><dd><ul><li>MAURIZIO PIO (literal)</li></ul></dd><dt>Cognome</dt><dd><ul><li>IMPRONTA (literal)</li></ul></dd><dt>Afferisce a</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/istituto/CDS057'>Institute for microelectronics and microsystems (IMM)</a> (Istituto)</li></ul></dd><dt>Ha pubblicazioni con</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID1973'>ANDREA SCORZONI</a> (Persona)</li></ul></dd><dt>Http://www.cnr.it/ontology/persone.owl#argomentoDiRicercaSimile</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA8616'>STEFANO CRISTIANI</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9744'>LUCIA CALCAGNO</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA12489'>GIORGIO LULLI</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA19359'>SANDRO SOLMI</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27821'>STEFANO LETTIERI</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA11244'>MATTEO BOSI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID1128'>Giuseppe Pennestrì</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID4546'>Andrea Severino</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID1974'>MATTEO FERRI</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID1920'>DARIO NOBILI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID2212'>EMILIA ARISI</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID2290'>FABIO BERGAMINI</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a 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<br/><h4>Incoming links:</h4><br/><dl><dt>Http://www.cnr.it/ontology/persone.owl#argomentoDiRicercaSimile</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA8616'>STEFANO CRISTIANI</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA12489'>GIORGIO LULLI</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA19359'>SANDRO SOLMI</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA9814'>MICHELE SANMARTIN</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27821'>STEFANO LETTIERI</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA1307'>GIOVANNI ATTOLINI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA855'>FABRIZIO TAMARRI</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA6558'>CESARE FRIGERI</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID1974'>MATTEO FERRI</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID4546'>Andrea Severino</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID2290'>FABIO BERGAMINI</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9744'>LUCIA CALCAGNO</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID1128'>Giuseppe Pennestrì</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID8422'>Giuseppina Ambrosone</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID1920'>DARIO NOBILI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID2212'>EMILIA ARISI</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA11244'>MATTEO BOSI</a> (Persona)</li></ul></dd><dt>Partecipazione di</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/personale-partecipazioneacommessa/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA9118-COMMESSA5444-ANNO2007'>Partecipazione a Commessa "Sintesi e caratterizzazione di materiali nanostrutturati a base di C e Si per applicazioni in sensoristica e nanoelettronica" (MD.P05.017) di DOTT. MAURIZIO PIO IMPRONTA nell'anno 2007</a> (Partecipazione a commessa)</li></ul></dd><dt>Ha afferente</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/istituto/CDS057'>Institute for microelectronics and microsystems (IMM)</a> (Istituto)</li></ul></dd><dt>Autore CNR</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID86868'>Electromigration Reliability Assessment of Cu-based Metallization Systems by a Wafer-Level Approach (Contributo in atti di convegno)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID36064'>Reliability assessment of multi-via Cu-damascene structures by wafer-level isothermal electromigration tests (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID36271'>Electromigration Reliability Assessment of Cu-based Metallization Systems by a Wafer-Level Approach (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID86869'>Resistance Instability in Cu-damascene Structures during the Isothermal Electromigration Test (Contributo in atti di convegno)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID86894'>FDTD Modeling of Void Defects in VLSI Interconnection (Contributo in atti di convegno)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID149127'>Sistema per prove rapide, a livello wafer, di elettromigrazione con tecnica isoterma (ISOT), particolarmente orientato a misure su strutture Cu-damascene (Progetti)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID158180'>Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (Rapporti progetti di ricerca)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID158181'>Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (Rapporti progetti di ricerca)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID158182'>Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (Rapporti progetti di ricerca)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID158179'>Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (Rapporti progetti di ricerca)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID180770'>An improved isothermal electromigration test for Cu-damascene characterization (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID180730'>Wide-band modelling of CMOS interconnections and voiding damages with the lumped element LE-FDTD method (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID183187'>Standard JEDEC JESD61A.01 Isothermal Electromigration Test Procedure (Altro prodotto)</a> (Prodotto della ricerca)</li></ul></dd><dt>Coautore</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID1973'>ANDREA SCORZONI</a> (Persona)</li></ul></dd><dt>Ha pubblicazioni con</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID1973'>ANDREA SCORZONI</a> (Persona)</li></ul></dd><dt>Gestore</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/modulo/ID6219'>Tecniche di caratterizzazione elettrica ed affidabilistica di dispositivi nanoelettronici e microelettronici ultrascalati (MD.P05.017.002)</a> (Modulo)</li></ul></dd><dt>Rapporto con persona</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/rapportoConCNR/MATRICOLA9118'>Employment relationship with CNR of DOTT. MAURIZIO PIO IMPRONTA</a> (Rapporto con CNR)</li></ul></dd><dt>Http://www.w3.org/2004/02/skos/core#isSubjectOf</dt><dd><ul><li><a href='http://dbpedia.org/resource/Category:Semiconductors' class = 'external' >Semiconductors</a> (Categoria DBpedia)</li><li><a href='http://dbpedia.org/resource/Category:Microtechnology' class = 'external' >Microtechnology</a> (Categoria DBpedia)</li><li><a href='http://dbpedia.org/resource/Category:Electronic_engineering' class = 'external' >Electronic engineering</a> (Categoria DBpedia)</li><li><a href='http://dbpedia.org/resource/Category:Semiconductor_device_fabrication' class = 'external' >Semiconductor device fabrication</a> (Categoria DBpedia)</li></ul></dd>

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