Autore CNR di

• Manufacturing self-assembled block copolymer film involves distributing first solution containing block copolymer onto substrate to partially coat substrate surface and self-assembling block copolymer by heating first intermediate product (Brevetto) (Prodotto della ricerca)
• Evolution of lateral ordering in symmetric block copolymer thin films upon rapid thermal processing (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
• Thermally induced self-assembly of cylindrical nanodomains in low molecular weight PS-b-PMMA thin films (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
• High aspect ratio PS-b-PMMA block copolymer masks for lithographic applications. (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
• Rapid thermal processing of self-assembling block copolymer thin films (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
• Fabrication of well-ordered arrays of silicon nanocrystals using a block copolymer mask (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
• Thermally induced orientational flipping of cylindrical phase diblock copolymers (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
• Flash grafting of functional random copolymers for surface neutralization (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
• Resistive Switching in High-Density Nanodevices Fabricated by Block Copolymer Self-Assembly (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
• Characterization of ultra-thin polymeric films by Gas chromatography-Mass spectrometry hyphenated to thermogravimetry (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
• Ordering dynamics in symmetric PS-b-PMMA diblock copolymer thin films during rapid thermal processing (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)

Coautore

• GABRIELE SEGUINI (Unità di personale interno)
• ANDREA ANDREOZZI (Persona)
• SABINA SPIGA (Persona)
• STEFANO BRIVIO (Unità di personale interno)
• MICHELE PEREGO (Unità di personale interno)

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Coautore

• SABINA SPIGA (Persona)
• MICHELE PEREGO (Unità di personale interno)
• GABRIELE SEGUINI (Unità di personale interno)
• STEFANO BRIVIO (Unità di personale interno)
• ANDREA ANDREOZZI (Persona)
• http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22865
• http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22981
• http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22874
• http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22880

Autore CNR

• Rapid thermal processing of self-assembling block copolymer thin films (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
• Evolution of lateral ordering in symmetric block copolymer thin films upon rapid thermal processing (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
• Characterization of ultra-thin polymeric films by Gas chromatography-Mass spectrometry hyphenated to thermogravimetry (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
• Thermally induced self-assembly of cylindrical nanodomains in low molecular weight PS-b-PMMA thin films (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
• Flash grafting of functional random copolymers for surface neutralization (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
• Ordering dynamics in symmetric PS-b-PMMA diblock copolymer thin films during rapid thermal processing (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
• Fabrication of well-ordered arrays of silicon nanocrystals using a block copolymer mask (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
• Thermally induced orientational flipping of cylindrical phase diblock copolymers (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
• High aspect ratio PS-b-PMMA block copolymer masks for lithographic applications. (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
• Manufacturing self-assembled block copolymer film involves distributing first solution containing block copolymer onto substrate to partially coat substrate surface and self-assembling block copolymer by heating first intermediate product (Brevetto) (Prodotto della ricerca)
• Resistive Switching in High-Density Nanodevices Fabricated by Block Copolymer Self-Assembly (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)