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Low Loss Coplanar Lines on Low Resistivity Silicon by SU-8 Thick Negative Photoresist (Contributo in atti di convegno)
- Type
- Label
- Low Loss Coplanar Lines on Low Resistivity Silicon by SU-8 Thick Negative Photoresist (Contributo in atti di convegno) (literal)
- Anno
- 2005-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi
- 10.1109/SMICND.2005.1558722 (literal)
- Alternative label
Marcelli R., Catoni S., Frenguelli L. (2005)
Low Loss Coplanar Lines on Low Resistivity Silicon by SU-8 Thick Negative Photoresist
in 28th International Semiconductor Conference, IEEE CAS 2005, Sinaia, Romania, October 3-5, 2005
(literal)
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
- Marcelli R., Catoni S., Frenguelli L. (literal)
- Pagina inizio
- Pagina fine
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- Proceedings of the 28th International Semiconductor Conference, IEEE CAS 2005 (literal)
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- Note
- ISI Web of Science (WOS) (literal)
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- Titolo
- Low Loss Coplanar Lines on Low Resistivity Silicon by SU-8 Thick Negative Photoresist (literal)
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- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autoriVolume
- Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#curatoriVolume
- Editors: Dan Dascalu, General Chairman; Adrian Rusu, Technical Program Chair (literal)
- Abstract
- In this paper a new approach to obtain low losses coplanar waveguide (CPW) lines is described. A photolithographic process is performed by using SU-8 thick negative photo-resist on low resistivity silicon to obtain CPW lines elevated with respect to the substrate to get the advantages from transmission line structures which are almost on-the-air. (literal)
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