Effect of He Dilution on the Growth Kinetics of SiH4-H2 Plasmas: Structural Studies on mc-Si by Micro-Raman, X-ray diffraction and Spectroscopic Ellipsometry (Contributo in atti di convegno)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Contributo in atti di convegno (Classe)

Label

• Effect of He Dilution on the Growth Kinetics of SiH4-H2 Plasmas: Structural Studies on mc-Si by Micro-Raman, X-ray diffraction and Spectroscopic Ellipsometry (Contributo in atti di convegno) (literal)

Anno

• 2005-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• G. Bruno, M. Losurdo, M.M. Giangregorio, A.Sacchetti, P.Capezzuto, F.Giorgis (2005)
  Effect of He Dilution on the Growth Kinetics of SiH4-H2 Plasmas: Structural Studies on mc-Si by Micro-Raman, X-ray diffraction and Spectroscopic Ellipsometry
  in Photovoltaics, Barcellona, Spain
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• G. Bruno, M. Losurdo, M.M. Giangregorio, A.Sacchetti, P.Capezzuto, F.Giorgis (literal)

Titolo

• Effect of He Dilution on the Growth Kinetics of SiH4-H2 Plasmas: Structural Studies on mc-Si by Micro-Raman, X-ray diffraction and Spectroscopic Ellipsometry (literal)

Prodotto di

• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)
• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)

Autore CNR

• PIO CAPEZZUTO (Persona)
• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)
• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)

Autore CNR di

• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)
• PIO CAPEZZUTO (Persona)