Real Time Ellipsometry for Monitoring Plasma-Assisted Epitaxial Growth o GaN” (Contributo in atti di convegno)

Type

• Contributo in atti di convegno (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Real Time Ellipsometry for Monitoring Plasma-Assisted Epitaxial Growth o GaN” (Contributo in atti di convegno) (literal)

Anno

• 2005-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• Giovanni Bruno, Maria Losurdo, Maria M. Giangregorio, Pio Capezzuto, April S. Brown, Tong-Ho Kim, Soojeong Choi, (2005)
  Real Time Ellipsometry for Monitoring Plasma-Assisted Epitaxial Growth o GaN”
  in E-MRS-2005, Symposium-P, Strasbourg, France
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Giovanni Bruno, Maria Losurdo, Maria M. Giangregorio, Pio Capezzuto, April S. Brown, Tong-Ho Kim, Soojeong Choi, (literal)

Titolo

• Real Time Ellipsometry for Monitoring Plasma-Assisted Epitaxial Growth o GaN” (literal)

Prodotto di

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)

Autore CNR

• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)
• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)

Autore CNR di

• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)