Low-Temperature Growth of HfO2 Dielectric Layers by PECVD (Contributo in atti di convegno)

Type
Label
  • Low-Temperature Growth of HfO2 Dielectric Layers by PECVD (Contributo in atti di convegno) (literal)
Anno
  • 2003-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Alternative label
  • M. Losurdo, M.M. Giangregorio, M. Luchena, P. Capezzuto, G. Bruno, D. Barreca, A. Gasparotto, E. Tondello (2003)
    Low-Temperature Growth of HfO2 Dielectric Layers by PECVD
    in Mat. Res. Soc. Symp. E Boston (USA) Dec. 1-5 (2003)., Boston (USA)
    (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
  • M. Losurdo, M.M. Giangregorio, M. Luchena, P. Capezzuto, G. Bruno, D. Barreca, A. Gasparotto, E. Tondello (literal)
Titolo
  • Low-Temperature Growth of HfO2 Dielectric Layers by PECVD (literal)
Prodotto di
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