Low pressure MOCVD of transparent Cu-Ti-O thin films (Contributo in atti di convegno)

Type

• Contributo in atti di convegno (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Low pressure MOCVD of transparent Cu-Ti-O thin films (Contributo in atti di convegno) (literal)

Anno

• 2001-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• G.A. Battiston, U, Casellato, R. Gerbasi, D. Barreca, E. Tondello (2001)
  Low pressure MOCVD of transparent Cu-Ti-O thin films
  in International Conference ”Thin film deposition of oxide multilayers. Industrial-scale processing”, Autrans, Francia
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• G.A. Battiston, U, Casellato, R. Gerbasi, D. Barreca, E. Tondello (literal)

Titolo

• Low pressure MOCVD of transparent Cu-Ti-O thin films (literal)

Prodotto di

• Institute of inorganic chemistry and surfaces (ICIS) (Istituto)

Autore CNR

• GIOVANNI BATTISTON (Unità di personale interno)
• ROSALBA GERBASI (Unità di personale interno)
• UMBERTO CASELLATO (Unità di personale interno)

Incoming links:

Prodotto

• Institute of inorganic chemistry and surfaces (ICIS) (Istituto)

Autore CNR di

• ROSALBA GERBASI (Unità di personale interno)
• GIOVANNI BATTISTON (Unità di personale interno)
• UMBERTO CASELLATO (Unità di personale interno)