TiO2 film deposition by MO-CVD: a computer simulation (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• TiO2 film deposition by MO-CVD: a computer simulation (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2001-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• G.A. Battiston, R. Gerbasi, G. Carlini, F. Doghieri (2001)
  TiO2 film deposition by MO-CVD: a computer simulation
  
  (literal)

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• G.A. Battiston, R. Gerbasi, G. Carlini, F. Doghieri (literal)

Pagina inizio

• 306 (literal)

Pagina fine

• 310 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 9 (literal)

Titolo

• TiO2 film deposition by MO-CVD: a computer simulation (literal)

Prodotto di

• Institute of inorganic chemistry and surfaces (ICIS) (Istituto)

Autore CNR

• GIOVANNI BATTISTON (Unità di personale interno)
• ROSALBA GERBASI (Unità di personale interno)

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Prodotto

• Institute of inorganic chemistry and surfaces (ICIS) (Istituto)

Autore CNR di

• ROSALBA GERBASI (Unità di personale interno)
• GIOVANNI BATTISTON (Unità di personale interno)