Double-face and submicron two-dimensional domain patterning in congruent lithium niobate (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Double-face and submicron two-dimensional domain patterning in congruent lithium niobate (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2006-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1109/LPT.2005.863626 (literal)

Alternative label

• Grilli S., Ferraro P., Sansone L., Paturzo M., De Nicola S., Pierattini G., De Natale P. (2006)
  Double-face and submicron two-dimensional domain patterning in congruent lithium niobate
  in IEEE photonics technology letters; IEEE, New York (Stati Uniti d'America)
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Grilli S., Ferraro P., Sansone L., Paturzo M., De Nicola S., Pierattini G., De Natale P. (literal)

Pagina inizio

• 541 (literal)

Pagina fine

• 543 (literal)

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• http://ieeexplore.ieee.org/xpls/abs_all.jsp?arnumber=1580559 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 8 (literal)

Rivista

• IEEE photonics technology letters (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 3 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• CNR-INOA (Napoli) CNR-ICIB (literal)

Titolo

• Double-face and submicron two-dimensional domain patterning in congruent lithium niobate (literal)

Abstract

• We report on the simultaneous fabrication of two-dimensional submicron engineered domain patterns on both crystal faces, in congruent lithium niobate. The fabrication technique is based on interference photolithography, which allows short pitch over large areas, followed by electric field poling performed in overpoling regime. Experimental results for different domain pattern geometries, on the two crystal faces, are reported. These structures could be useful for short-wavelength frequency conversion and Bragg gratings applications. The moiré effect is used in the lithographic process to fabricate more complex structures which could find application in photonic bandgap devices. (literal)

Editore

• IEEE, Institute of electrical and electronics engineers (Editore)

Prodotto di

• Sviluppo di tecnologie, materiali e dispositivi per applicazioni alla ottica quantistica ed alla spettroscopia (MD.P03.021.001) (Modulo)
• Sviluppo di tecniche di diagnostica ottica, microscopia ed interferometria (MD.P03.022.001) (Modulo)

Autore CNR

• PAOLO DE NATALE (Persona)
• SIMONETTA GRILLI (Persona)
• Melania Paturzo (Unità di personale esterno)
• PIETRO FERRARO (Unità di personale interno)

Insieme di parole chiave

• Keywords of "Double-face and submicron two-dimensional domain patterning in congruent lithium niobate" (Insieme di parole chiave)

Incoming links:

Autore CNR di

• PIETRO FERRARO (Unità di personale interno)
• SIMONETTA GRILLI (Persona)
• PAOLO DE NATALE (Persona)
• Melania Paturzo (Unità di personale esterno)

Prodotto

• Sviluppo di tecnologie, materiali e dispositivi per applicazioni alla ottica quantistica ed alla spettroscopia (MD.P03.021.001) (Modulo)
• Sviluppo di tecniche di diagnostica ottica, microscopia ed interferometria (MD.P03.022.001) (Modulo)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• IEEE photonics technology letters (Rivista)

Editore di

• IEEE, Institute of electrical and electronics engineers (Editore)

Insieme di parole chiave di

• Keywords of "Double-face and submicron two-dimensional domain patterning in congruent lithium niobate" (Insieme di parole chiave)