Multiple lenght scale patterning of DNA by stamp assisted deposition (Articolo in rivista)

Type
Label
  • Multiple lenght scale patterning of DNA by stamp assisted deposition (Articolo in rivista) (literal)
Anno
  • 2006-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi
  • 10.1002/anie.200600114 (literal)
Alternative label
  • E. Bystrenova (1), M. Facchini (1), M. Cavallini (1), M.G. Cacace (1), F. Biscarini (1) (2006)
    Multiple lenght scale patterning of DNA by stamp assisted deposition
    in Angewandte Chemie (Int. ed., Print); WILEY-BLACKWELL, MALDEN 02148,MA (Stati Uniti d'America)
    (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
  • E. Bystrenova (1), M. Facchini (1), M. Cavallini (1), M.G. Cacace (1), F. Biscarini (1) (literal)
Pagina inizio
  • 4779 (literal)
Pagina fine
  • 4782 (literal)
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  • 45 (literal)
Rivista
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali
  • 4 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo
  • 29 (literal)
Note
  • ISI Web of Science (WOS) (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
  • 1. CNR, Inst Studio Mat Nanostrutturati, Sez Bologna, I-40129 Bologna, Italy (literal)
Titolo
  • Multiple lenght scale patterning of DNA by stamp assisted deposition (literal)
Abstract
  • DNA deposits with submicrometer features can be prepared by micromolding in capillaries on a mica plate (see picture). Upon evaporation, surface properties of the DNA solution and the support come to the fore. The morphology of the DNA deposit can be controlled simply by adjusting the concentrations of the DNA solution and added salt. (literal)
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Autore CNR
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