Auger parameter studies of third-row chemical elements (Articolo in rivista)

Type
Label
  • Auger parameter studies of third-row chemical elements (Articolo in rivista) (literal)
Anno
  • 2006-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi
  • 10.1002/sia.2143 (literal)
Alternative label
  • Giuliano Moretti (1); Ernesto Paparazzo (2) (2006)
    Auger parameter studies of third-row chemical elements
    in SIA. Surface and interface analysis
    (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
  • Giuliano Moretti (1); Ernesto Paparazzo (2) (literal)
Pagina inizio
  • 636 (literal)
Pagina fine
  • 639 (literal)
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  • Conference: 11th European Conference on Applications of Surface and Interface Anlaysis Location: Vienna, AUSTRIA Date: SEP 25-30, 2005. (literal)
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  • http://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/sia.2143/abstract;jsessionid=B686A0D84D1C464B54E686BDE042C0D2.f04t03 (literal)
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  • 38 (literal)
Rivista
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  • 4 (literal)
Note
  • ISI Web of Science (WOS) (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
  • (1) Dipartimento di Chimica and Istituto dei Sistemi Complessi del CNR, Università di Roma 'La Sapienza', Piazzale A. Moro 5, 00185 Roma, Italy (2) Istituto di Struttura della Materia del CNR, Via Fosso del Cavaliere 100, 00133 Roma, Italy (literal)
Titolo
  • Auger parameter studies of third-row chemical elements (literal)
Abstract
  • The Auger parameter (AP) studies available in the literature are usually based on Auger transitions involving only core-level electrons. In this paper, besides the usual AP - ?*Z = [BE(2p)] + [KE(KL23L23)], (Z = third-row chemical elements)--we also considered the AP involving core-valence-valence Auger transitions - ?*Z = [BE(2p)] + [KE(L23VV)]. The chemical shifts for ?* between Al0 and Al2O3 and between Si0 and SiO2 are more than twice that for ?*, whereas the difference in such chemical shifts progressively decreases with increasing Z. While the inelastic mean free path (?) associated with ?* spans the range ?2.5-4.5 nm, ?* relates to a much more surface-specific analysis, i.e. 0.5 < ? < 2.5 nm. We discuss the diagnostic potential of ?* and outline its advantages and shortcomings in the surface and interface analysis of materials. (literal)
Prodotto di
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