Role of the internal strain on the incomplete Si/SiO2 phase separation in substoichiometric silicon oxide films (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Role of the internal strain on the incomplete Si/SiO2 phase separation in substoichiometric silicon oxide films (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2007-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1063/1.2734398 (literal)

Alternative label

• La Magna A.; Nicotra G.; Bongiorno C.; Spinella C.; Grimaldi M.G.; Rimini E.; Caristia L.; Coffa S. (2007)
  Role of the internal strain on the incomplete Si/SiO2 phase separation in substoichiometric silicon oxide films
  in Applied physics letters
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• La Magna A.; Nicotra G.; Bongiorno C.; Spinella C.; Grimaldi M.G.; Rimini E.; Caristia L.; Coffa S. (literal)

Pagina inizio

• 183101 (literal)

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• http://apl.aip.org/resource/1/applab/v90/i18/p183101_s1 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 90 (literal)

Rivista

• Applied physics letters (Rivista)

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• 3 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo

• 18 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• CNR-IMM Catania; Dip. di Fisica Universita' Catania; STMicroelectronics Catania (literal)

Titolo

• Role of the internal strain on the incomplete Si/SiO2 phase separation in substoichiometric silicon oxide films (literal)

Abstract

• Silicon nanoclusters were formed in plasma-enhanced chemical vapor deposited substoichiometric silicon oxide films by annealing at 1100 C for 1/2 h as a function of different deposition parameters. The samples were analyzed by energy filtered transmission electron microscopy and Rutherford backscattering. At any deposition condition, the clustered silicon concentration is significantly lower than the initial silicon excess concentration. This behavior is explained by taking into account the free energy difference between the metastable SiO and stable SiO2 phase and the strain energy associated with the different atomic densities of Si and SiO2. (literal)

Prodotto di

• TRASPORTO IN MOS SCALATI E NUOVE STRUTTURE (MD.P05.008.001) (Modulo)
• Sviluppo di metodologie avanzate per dispositivi elettronici micro e nanostrutturati (MD.P05.005.001) (Modulo)
• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)

Autore CNR

• ANTONINO LA MAGNA (Persona)
• ROSARIO CORRADO SPINELLA (Persona)
• CORRADO BONGIORNO (Unità di personale interno)
• GIUSEPPE NICOTRA (Unità di personale esterno)

Insieme di parole chiave

• Keywords of "Role of the internal strain on the incomplete Si/SiO2 phase separation in substoichiometric silicon oxide films" (Insieme di parole chiave)

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Autore CNR di

• ANTONINO LA MAGNA (Persona)
• ROSARIO CORRADO SPINELLA (Persona)
• CORRADO BONGIORNO (Unità di personale interno)
• GIUSEPPE NICOTRA (Unità di personale esterno)

Prodotto

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• TRASPORTO IN MOS SCALATI E NUOVE STRUTTURE (MD.P05.008.001) (Modulo)
• Sviluppo di metodologie avanzate per dispositivi elettronici micro e nanostrutturati (MD.P05.005.001) (Modulo)

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• Applied physics letters (Rivista)

Insieme di parole chiave di

• Keywords of "Role of the internal strain on the incomplete Si/SiO2 phase separation in substoichiometric silicon oxide films" (Insieme di parole chiave)