Quantitative determination of the clustered silicon concentration in substoichiometric silicon oxide layer (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Quantitative determination of the clustered silicon concentration in substoichiometric silicon oxide layer (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2005-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1063/1.1999839 (literal)

Alternative label

• Spinella C.; Bongiorno C.; Nicotra G.; Rimini E.; Muscarà A.; Coffa S. (2005)
  Quantitative determination of the clustered silicon concentration in substoichiometric silicon oxide layer
  in Applied physics letters
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Spinella C.; Bongiorno C.; Nicotra G.; Rimini E.; Muscarà A.; Coffa S. (literal)

Pagina inizio

• 044102 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#url

• http://apl.aip.org/resource/1/applab/v87/i4/p044102_s1 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 87 (literal)

Rivista

• Applied physics letters (Rivista)

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• 3 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo

• 4 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• CNR, Ist Microelett & Microsistemi, I-95121 Catania, Italy; STMicroelect, I-95121 Catania, Italy (literal)

Titolo

• Quantitative determination of the clustered silicon concentration in substoichiometric silicon oxide layer (literal)

Abstract

• We present an analytical methodology, based on electron energy loss spectroscopy (EELS) and energy-filtered transmission electron microscopy, which allows us to quantify the clustered silicon concentration in annealed substoichiometric silicon oxide layers, deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition. The clustered Si volume fraction was deduced from a fit to the experimental EELS spectrum using a theoretical description proposed to calculate the dielectric function of a system of spherical particles of equal radii, located at random in a host material. The methodology allowed us to demonstrate that the clustered Si concentration is only one half of the excess Si concentration dissolved in the layer. (literal)

Prodotto di

• Sviluppo di metodologie avanzate per dispositivi elettronici micro e nanostrutturati (MD.P05.005.001) (Modulo)
• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)

Autore CNR

• ROSARIO CORRADO SPINELLA (Persona)
• GIUSEPPE NICOTRA (Unità di personale esterno)
• CORRADO BONGIORNO (Unità di personale interno)

Insieme di parole chiave

• Parole chiave di "Quantitative determination of the clustered silicon concentration in substoichiometric silicon oxide layer" (Insieme di parole chiave)

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Prodotto

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Sviluppo di metodologie avanzate per dispositivi elettronici micro e nanostrutturati (MD.P05.005.001) (Modulo)

Autore CNR di

• ROSARIO CORRADO SPINELLA (Persona)
• CORRADO BONGIORNO (Unità di personale interno)
• GIUSEPPE NICOTRA (Unità di personale esterno)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Applied physics letters (Rivista)

Insieme di parole chiave di

• Parole chiave di "Quantitative determination of the clustered silicon concentration in substoichiometric silicon oxide layer" (Insieme di parole chiave)