Silicon Doping Effect on SF6/O2 plasma chemical texturing (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Silicon Doping Effect on SF6/O2 plasma chemical texturing (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2011-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• E. Dilonardo, G.V. Bianco, M.M. Giangregorio, M. Losurdo, P. Capezzuto, G. Bruno (2011)
  Silicon Doping Effect on SF6/O2 plasma chemical texturing
  in Journal of applied physics
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• E. Dilonardo, G.V. Bianco, M.M. Giangregorio, M. Losurdo, P. Capezzuto, G. Bruno (literal)

Pagina inizio

• 013303 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 110 (literal)

Rivista

• Journal of applied physics (Rivista)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Titolo

• Silicon Doping Effect on SF6/O2 plasma chemical texturing (literal)

Prodotto di

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)

Autore CNR

• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• MARIA MICHELA GIANGREGORIO (Persona)
• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)
• PIO CAPEZZUTO (Persona)
• GIUSEPPE VALERIO BIANCO (Unità di personale interno)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)

Autore CNR di

• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)
• MARIA MICHELA GIANGREGORIO (Persona)
• PIO CAPEZZUTO (Persona)
• GIUSEPPE VALERIO BIANCO (Unità di personale interno)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Journal of applied physics (Rivista)