Effect of growth parameters on crystallinity and properties of ZnO films grown by plasma-assisted MOCVD (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Effect of growth parameters on crystallinity and properties of ZnO films grown by plasma-assisted MOCVD (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2007-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1016/j.spmi.2007.04.040 (literal)

Alternative label

• M. Losurdo, M.M. Giangregorio, A. Sacchetti, P. Capezzuto, G. Bruno, G. Malandrino, I.L. Fragalà (2007)
  Effect of growth parameters on crystallinity and properties of ZnO films grown by plasma-assisted MOCVD
  in Superlattices and microstructures
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• M. Losurdo, M.M. Giangregorio, A. Sacchetti, P. Capezzuto, G. Bruno, G. Malandrino, I.L. Fragalà (literal)

Pagina inizio

• 40 (literal)

Pagina fine

• 46 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 42 (literal)

Rivista

• Superlattices and microstructures (Rivista)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• CNR, INSTM, Inst Inorgan Methodol & Plasmas, UdR Bari, I-70126 Bari, Italy [ 2 ] Univ Catania, Dipartimento Sci Chim, INSTM, I-95125 Catania, Italy (literal)

Titolo

• Effect of growth parameters on crystallinity and properties of ZnO films grown by plasma-assisted MOCVD (literal)

Abstract

• hin films of ZnO have been grown by plasma assisted metal-organic chemical vapour deposition (PAMOCVD) using a 13.56 MHz O-2 plasma and the Zn(TTA)(2) center dot e tmed (HTTA = 2-thenoyltrifluoroacetone, TMED = N, N, N', N'-tetramethylethylendiamine) precursor. The effects of growth parameters such as the plasma activation, the substrate, the surface temperature, and the ratio of fluxes of precursors on the structure, morphology, and optical and electrical properties of ZnO thin films have been studied. Under a very low plasma power of 20 W, c-axis oriented hexagonal ZnO thin films are grown on hexagonal sapphire (0001), cubic Si(001) and amorphous quartz substrates. The substrate temperature mainly controls grain size. (literal)

Prodotto di

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)

Autore CNR

• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)
• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• MARIA MICHELA GIANGREGORIO (Persona)
• PIO CAPEZZUTO (Persona)
• ALBERTO SACCHETTI (Unità di personale interno)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)

Autore CNR di

• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)
• ALBERTO SACCHETTI (Unità di personale interno)
• MARIA MICHELA GIANGREGORIO (Persona)
• PIO CAPEZZUTO (Persona)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Superlattices and microstructures (Rivista)