Studio preliminare sulla deposizione di ossido di silicio via ALD a bassa temperatura (Rapporti tecnici/preprint/working paper)

Type
Label
  • Studio preliminare sulla deposizione di ossido di silicio via ALD a bassa temperatura (Rapporti tecnici/preprint/working paper) (literal)
Anno
  • 2014-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Alternative label
  • R.Gerbasi, N.El Habra (2014)
    Studio preliminare sulla deposizione di ossido di silicio via ALD a bassa temperatura
    (literal)
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  • R.Gerbasi, N.El Habra (literal)
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  • contratto per l'esecuzione attività di ricerca per la ditta Dantecaneva srl, via dell'Economia 121, Vicenza. Corrispettivi 3000 EUR + iva, durata 1 mese, prot. N. 0003362 del 07/10/2014 (literal)
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  • IENI-CNR (literal)
Titolo
  • Studio preliminare sulla deposizione di ossido di silicio via ALD a bassa temperatura (literal)
Abstract
  • L'ossido di silicio è un materiale trasparente e di discreta durezza, ma ancora poco studiato come film protettivo da depositare mediante la tecnica ALD a bassa temperature su substrati metallici. L'attività di ricerca in oggetto si articolerà sulla ricerca bibliografica per l'identificazione di precursori adatti alla deposizione ALD a bassa temperatura e prove preliminari di deposizione. (literal)
Prodotto di
Autore CNR

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