Surface texturing of n- and p-doped c-Si using a novel plasma chemical texturing process (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Surface texturing of n- and p-doped c-Si using a novel plasma chemical texturing process (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2011-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1016/j.egypro.2011.10.143 (literal)

Alternative label

• Dilonardo, Elena; Bianco, Giuseppe Valerio; Giangregorio, Maria Michela; Bruno, Giovanni; Capezzuto, Pio; Losurdo, Maria (2011)
  Surface texturing of n- and p-doped c-Si using a novel plasma chemical texturing process
  in Energy procedia (Online)
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Dilonardo, Elena; Bianco, Giuseppe Valerio; Giangregorio, Maria Michela; Bruno, Giovanni; Capezzuto, Pio; Losurdo, Maria (literal)

Pagina inizio

• 1 (literal)

Pagina fine

• 7 (literal)

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• http://www.scopus.com/record/display.url?eid=2-s2.0-84855644481&origin=inward (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 10 (literal)

Rivista

• Energy procedia (Rivista)

Note

• Scopu (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• Universita degli Studi di Bari; Consiglio Nazionale delle Ricerche (literal)

Titolo

• Surface texturing of n- and p-doped c-Si using a novel plasma chemical texturing process (literal)

Abstract

• [object Object] (literal)

Prodotto di

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)

Autore CNR

• PIO CAPEZZUTO (Persona)
• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)
• GIUSEPPE VALERIO BIANCO (Unità di personale interno)
• MARIA MICHELA GIANGREGORIO (Persona)

Insieme di parole chiave

• Parole chiave di "Surface texturing of n- and p-doped c-Si using a novel plasma chemical texturing process" (Insieme di parole chiave)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)

Autore CNR di

• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)
• MARIA MICHELA GIANGREGORIO (Persona)
• PIO CAPEZZUTO (Persona)
• GIUSEPPE VALERIO BIANCO (Unità di personale interno)

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• Energy procedia (Rivista)

Insieme di parole chiave di

• Parole chiave di "Surface texturing of n- and p-doped c-Si using a novel plasma chemical texturing process" (Insieme di parole chiave)