Selective iterative etching of fused silica with gaseous hydrofluoric acid (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Selective iterative etching of fused silica with gaseous hydrofluoric acid (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2010-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• F. Venturini, W. Navarrini, G. Resnati, P. Metrangolo, R. Martinez Vazquez, R. Osellame, G. Cerullo (2010)
  Selective iterative etching of fused silica with gaseous hydrofluoric acid
  in Journal of physical chemistry. C
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• F. Venturini, W. Navarrini, G. Resnati, P. Metrangolo, R. Martinez Vazquez, R. Osellame, G. Cerullo (literal)

Pagina inizio

• 18712 (literal)

Pagina fine

• 18716 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 114 (literal)

Rivista

• Journal of physical chemistry. C (Rivista)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• Dipartimento di Chimica, Materiali e Ingegneria Chimica \"Giulio Natta\", Politecnico di Milano, Via Luigi Mancinelli, 7, 20133 Milan, Italy, and Istituto di Fotonica e NanotecnologiesCNR, Dipartimento di FisicasPolitecnico di Milano, Piazza Leonardo da Vinci, 32, 20133 Milan, Italy (literal)

Titolo

• Selective iterative etching of fused silica with gaseous hydrofluoric acid (literal)

Prodotto di

• Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN) (Istituto)
• Dispositivi e sistemi fotonici (MD.P03.013.001) (Modulo)

Autore CNR

• ROBERTO OSELLAME (Unità di personale interno)
• REBECA MARTINEZ VAZQUEZ (Persona)

Incoming links:

Autore CNR di

• ROBERTO OSELLAME (Unità di personale interno)
• REBECA MARTINEZ VAZQUEZ (Persona)

Prodotto

• Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN) (Istituto)
• Dispositivi e sistemi fotonici (MD.P03.013.001) (Modulo)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Journal of physical chemistry. C (Rivista)