Electron Beam Lithography Simulation for the Patterning of Extreme Ultraviolet Masks (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Electron Beam Lithography Simulation for the Patterning of Extreme Ultraviolet Masks (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2008-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• N. Tsikrikas, G. P. Patsis, I. Raptis, A. Gerardino, and E. Quesnel (2008)
  Electron Beam Lithography Simulation for the Patterning of Extreme Ultraviolet Masks
  in Japanese journal of applied physics
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• N. Tsikrikas, G. P. Patsis, I. Raptis, A. Gerardino, and E. Quesnel (literal)

Pagina inizio

• 4909 (literal)

Pagina fine

• 4912 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 47 (literal)

Rivista

• Japanese journal of applied physics (Rivista)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Titolo

• Electron Beam Lithography Simulation for the Patterning of Extreme Ultraviolet Masks (literal)

Prodotto di

• Nanodispositivi spintronici e fotonici (MD.P06.001.004) (Modulo)
• Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN) (Istituto)

Autore CNR

• ANNAMARIA GERARDINO (Persona)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN) (Istituto)
• Nanodispositivi spintronici e fotonici (MD.P06.001.004) (Modulo)

Autore CNR di

• ANNAMARIA GERARDINO (Persona)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Japanese journal of applied physics (Rivista)