Chemistry of Amorphous Silicon Deposition Processes : Fundamentals and Controversial Aspects (Contributo in volume (capitolo o saggio))

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Contributo in volume (capitolo o saggio) (Classe)

Label

• Chemistry of Amorphous Silicon Deposition Processes : Fundamentals and Controversial Aspects (Contributo in volume (capitolo o saggio)) (literal)

Anno

• 1995-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• Giovanni Bruno, Pio Capezzuto, and Grazia Cicala (1995)
  Chemistry of Amorphous Silicon Deposition Processes : Fundamentals and Controversial Aspects
  Academic Press, San Diego (Stati Uniti d'America) in Plasma Deposition of Amorphous Silicon-Based Materials, 1995
  (literal)

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• Giovanni Bruno, Pio Capezzuto, and Grazia Cicala (literal)

Pagina inizio

• 1 (literal)

Pagina fine

• 62 (literal)

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• Plasma Deposition of Amorphous Silicon-Based Materials (literal)

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• 62 (literal)

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• Centro di Studio per la Chimica dei Plasmi Department of Chemistry University of Bari Bari, Italy (literal)

Titolo

• Chemistry of Amorphous Silicon Deposition Processes : Fundamentals and Controversial Aspects (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#isbn

• 0-12-137940-X (literal)

Editore

• Academic Press (Editore)

Prodotto di

• Dinamica di Plasmi e Laser-Plasmi (MD.P03.027.001) (Modulo)
• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)

Autore CNR

• GRAZIA CICALA (Unità di personale interno)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Dinamica di Plasmi e Laser-Plasmi (MD.P03.027.001) (Modulo)

Autore CNR di

• GRAZIA CICALA (Unità di personale interno)

Editore di

• Academic Press (Editore)