Photoelectron spectroscopy study of amorphous silicon-carbon alloys deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Photoelectron spectroscopy study of amorphous silicon-carbon alloys deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 1996-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1557/JMR.1996.0383 (literal)

Alternative label

• Cicala G.a, Bruno G.a, Capezzuto P.b, Favia P.b (1996)
  Photoelectron spectroscopy study of amorphous silicon-carbon alloys deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition
  in Journal of materials research
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Cicala G.a, Bruno G.a, Capezzuto P.b, Favia P.b (literal)

Pagina inizio

• 3017 (literal)

Pagina fine

• 3023 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 11 (literal)

Rivista

• Journal of materials research (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 7 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo

• 12 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)
• Scopu (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• a Ctro. Stud. per Chim. dei Plasmi CNR; b Dipartimento di Chimica, Università di Bari, Via Orabona, 4, 70126 Bari, Italy (literal)

Titolo

• Photoelectron spectroscopy study of amorphous silicon-carbon alloys deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition (literal)

Abstract

• X-ray photoelectrons pectroscopy (XPS) coupled with Fourier transform infrared (FTIR) and optical transmission spectroscopy (OTS) has been used for the characterization of silicon-carbon alloys (a-Si1-x,Cx:H,F) deposited via plasma, by varying the CH4 amount in SiF4-CH4-H2 feeding mixture. XPS measurements have shown that carbon-rich a-Si1-xCx : H, F alloys include large amounts of fluorine (> 1 1 at.%), which make the films susceptible to the air oxidation. In addition, the effect of the alloying partner carbon on the valence band (VB) and on the VB edge position of amorphous silicon is also described. (literal)

Prodotto di

• Dinamica di Plasmi e Laser-Plasmi (MD.P03.027.001) (Modulo)
• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)

Autore CNR

• GRAZIA CICALA (Unità di personale interno)

Insieme di parole chiave

• Parole chiave di "Photoelectron spectroscopy study of amorphous silicon-carbon alloys deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition" (Insieme di parole chiave)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Dinamica di Plasmi e Laser-Plasmi (MD.P03.027.001) (Modulo)

Autore CNR di

• GRAZIA CICALA (Unità di personale interno)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Journal of materials research (Rivista)

Insieme di parole chiave di

• Parole chiave di "Photoelectron spectroscopy study of amorphous silicon-carbon alloys deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition" (Insieme di parole chiave)