PECVD of Amorphous TiO2 Thin Films: Effect of Growth Temperature and Plasma Gas Composition (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• PECVD of Amorphous TiO2 Thin Films: Effect of Growth Temperature and Plasma Gas Composition (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2000-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1016/S0040-6090(00)00998-6 (literal)

Alternative label

• Battiston G.A.; Gerbasi R.; Gregori A.; Porchia M.; Cattarin S.; Rizzi G.A. (2000)
  PECVD of Amorphous TiO2 Thin Films: Effect of Growth Temperature and Plasma Gas Composition
  in Thin solid films (Print)
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Battiston G.A.; Gerbasi R.; Gregori A.; Porchia M.; Cattarin S.; Rizzi G.A. (literal)

Pagina inizio

• 126 (literal)

Pagina fine

• 131 (literal)

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• http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0040609000009986 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 371 (literal)

Rivista

• Thin solid films (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 6 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)
• Scopu (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• 1-4 : ICTIMA-CNR, Corso Stati Uniti 4, I-35127, Padova, Italy 5 : IPELP-CNR, Corso Stati Uniti 4, I-35127, Padova, Italy 6 : Università di Padova, Dipto. CIMA-Via Loredan 4, I-35131, Padova, Italy (literal)

Titolo

• PECVD of Amorphous TiO2 Thin Films: Effect of Growth Temperature and Plasma Gas Composition (literal)

Abstract

• Amorphous TiO2 thin films are grown using a r.f. plasma-enhanced chemical vapour deposition process at substrate temperatures between 393 and 523 K using titanium tetraisopropoxide as a precursor, and Ar or N2, pure or mixed with O2, as the plasma gas. All films are smooth and adherent, their roughness slightly increases by increasing the substrate temperature or if oxygen is added to the plasma gas. Films grown in the presence of oxygen result transparent in the visible region and highly resistive, as expected for pure titanium dioxide. Films grown in an oxygen-free plasma appear grey-blue and fairly conductive suggesting the presence of Ti(III) species. The operating conditions provide high deposition rates, up to 37 nm/min in the presence of oxygen. (literal)

Prodotto di

• Institute of Condensed Matter Chemistry and Energy Technologies (ICMATE) (Istituto)
• Istituto di chimica inorganica e delle superfici (ICIS) (Istituto)

Autore CNR

• ROSALBA GERBASI (Unità di personale interno)
• MARINA PORCHIA (Unità di personale interno)
• SANDRO CATTARIN (Unità di personale interno)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di chimica inorganica e delle superfici (ICIS) (Istituto)
• Institute of Condensed Matter Chemistry and Energy Technologies (ICMATE) (Istituto)

Autore CNR di

• MARINA PORCHIA (Unità di personale interno)
• ROSALBA GERBASI (Unità di personale interno)
• SANDRO CATTARIN (Unità di personale interno)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Thin solid films (Rivista)