From amorphous to microcrystalline silicon deposition in SiF4-H2-He plasmas in situ control by optical emission spectroscopy (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• From amorphous to microcrystalline silicon deposition in SiF4-H2-He plasmas in situ control by optical emission spectroscopy (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2001-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1016/S0040-6090(00)01584-4 (literal)

Alternative label

• G. Cicala1, P. Capezzuto2 and G. Bruno1 (2001)
  From amorphous to microcrystalline silicon deposition in SiF4-H2-He plasmas in situ control by optical emission spectroscopy
  in Thin solid films (Print)
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• G. Cicala1, P. Capezzuto2 and G. Bruno1 (literal)

Pagina inizio

• 203 (literal)

Pagina fine

• 205 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 383 (literal)

Rivista

• Thin solid films (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 3 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo

• 1-2 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)
• Scopu (literal)

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• 1Centro di Studio per la Chimica dei Plasmi, w/o Dipartimento di Chimica-Uni?ersit`a di Bari Via Orabona, 4-70126 Bari, Italy 2Dipartimento di Chimica-Uni?ersit`a di Bari Via Orabona, 4-70126 Bari, Italy (literal)

Titolo

• From amorphous to microcrystalline silicon deposition in SiF4-H2-He plasmas in situ control by optical emission spectroscopy (literal)

Abstract

• Pure hydrogenated microcrystalline silicon (mc-Si?H) films were deposited by SiF4-?H2-?He plasmas at temperatures as low as 120°?C and frequencies of 13.56 and 75 MHz. The plasma diagnostics by optical emission spectroscopy has allowed us to control the growth of m?c-Si?H films. The silicon structure can be changed from pure amorphous to pure microcrystalline under the controlled variation of the densities of F atoms, H atoms and SiFn radicals in the plasma phase. (literal)

Prodotto di

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Dinamica di Plasmi e Laser-Plasmi (MD.P03.027.001) (Modulo)
• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)

Autore CNR

• GRAZIA CICALA (Unità di personale interno)
• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)

Insieme di parole chiave

• Parole chiave di "From amorphous to microcrystalline silicon deposition in SiF4-H2-He plasmas in situ control by optical emission spectroscopy" (Insieme di parole chiave)

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Prodotto

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)
• Dinamica di Plasmi e Laser-Plasmi (MD.P03.027.001) (Modulo)

Autore CNR di

• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• GRAZIA CICALA (Unità di personale interno)

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• Thin solid films (Rivista)

Insieme di parole chiave di

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