Growth chemistry of SiC alloys from SiF4-CH4 plasmas. (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Growth chemistry of SiC alloys from SiF4-CH4 plasmas. (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2001-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1016/S0169-4332(01)00665-1 (literal)

Alternative label

• G. Cicala1, P. Capezzuto2, G. Bruno1 and M. C. Rossi3 (2001)
  Growth chemistry of SiC alloys from SiF4-CH4 plasmas.
  in Applied surface science
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• G. Cicala1, P. Capezzuto2, G. Bruno1 and M. C. Rossi3 (literal)

Pagina inizio

• 66 (literal)

Pagina fine

• 71 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 184 (literal)

Rivista

• Applied surface science (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 6 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo

• 1-4 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)
• Scopu (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• 1Centro di Studio per la Chimica dei Plasmi CNR, w/o Dipartimento di Chimica Universita` di Bari Via Orabona, 4-70126 Bari, Italy 2Dipartimento di Chimica Universita` di Bari Via Orabona, 4-70126 Bari, Italy 3Dipartimento di Ingegneria Elettronica e INFM, Universita` di Roma Tre, Roma, Italy (literal)

Titolo

• Growth chemistry of SiC alloys from SiF4-CH4 plasmas. (literal)

Abstract

• The deposition of SiC:H,F films from SiF4-CH4 plasmas is investigated: the emphasis is on the role of H and F atoms in determining the carbon and silicon etching processes. It is found that the H2 addition to the SiF4-CH4-He mixture affects the relative amounts of the H and F atoms in the plasma phase. The H/F ratio controls the deposition rate, the composition and the structure of silicon carbon alloys. (literal)

Prodotto di

• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)
• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Dinamica di Plasmi e Laser-Plasmi (MD.P03.027.001) (Modulo)

Autore CNR

• GRAZIA CICALA (Unità di personale interno)
• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)

Insieme di parole chiave

• Keywords of "Growth chemistry of SiC alloys from SiF4-CH4 plasmas." (Insieme di parole chiave)

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Prodotto

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)
• Dinamica di Plasmi e Laser-Plasmi (MD.P03.027.001) (Modulo)

Autore CNR di

• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• GRAZIA CICALA (Unità di personale interno)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Applied surface science (Rivista)

Insieme di parole chiave di

• Keywords of "Growth chemistry of SiC alloys from SiF4-CH4 plasmas." (Insieme di parole chiave)