Deposition and etching of fluorocarbon thin films in atmospheric pressure DBDs fed with Ar-CF4-H2 and Ar-CF4-O2 mixtures (Articolo in rivista)

Type
Label
  • Deposition and etching of fluorocarbon thin films in atmospheric pressure DBDs fed with Ar-CF4-H2 and Ar-CF4-O2 mixtures (Articolo in rivista) (literal)
Anno
  • 2010-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi
  • 10.1016/j.surfcoat.2009.11.011 (literal)
Alternative label
  • Fiorenza Fanelli , Francesco Fracassi, Riccardo d'Agostino (2010)
    Deposition and etching of fluorocarbon thin films in atmospheric pressure DBDs fed with Ar-CF4-H2 and Ar-CF4-O2 mixtures
    in Surface & coatings technology; Elsevier Sequoia, Lausanne (Svizzera)
    (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
  • Fiorenza Fanelli , Francesco Fracassi, Riccardo d'Agostino (literal)
Pagina inizio
  • 1779 (literal)
Pagina fine
  • 1784 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume
  • 204 (literal)
Rivista
Note
  • ISI Web of Science (WOS) (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
  • Dipartimento di Chimica, Università degli Studi di Bari-IMIP CNR, via Orabona 4, 70126 Bari, Italy (literal)
Titolo
  • Deposition and etching of fluorocarbon thin films in atmospheric pressure DBDs fed with Ar-CF4-H2 and Ar-CF4-O2 mixtures (literal)
Editore
Prodotto di
Autore CNR

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