Two-Photon Continuous Flow Lithography (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Two-Photon Continuous Flow Lithography (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2012-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1002/adma.201103357 (literal)

Alternative label

• Laza SC, M. Polo, A. A. R. Neves, R. Cingolani, A. Camposeo, and D. Pisignano (2012)
  Two-Photon Continuous Flow Lithography
  in Advanced materials (Weinh., Print); WILEY-V C H VERLAG GMBH,, D-69451 WEINHEIM, (Germania)
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Laza SC, M. Polo, A. A. R. Neves, R. Cingolani, A. Camposeo, and D. Pisignano (literal)

Pagina inizio

• 1304 (literal)

Pagina fine

• 1308 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 24 (literal)

Rivista

• Advanced materials (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroFascicolo

• 10 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• 1. Univ Salento, Ist Nanosci CNR, Natl Nanotechnol Lab, I-73100 Lecce, Italy 2. Ist Italiano Tecnol, Ctr Biomol Nanotechnol UNILE, I-73010 Arnesano, Italy 3. Univ Salento, Dipartimento Ingn Innovaz, I-73100 Lecce, Italy 4. Italian Inst Technol, I-16163 Genoa, Italy (literal)

Titolo

• Two-Photon Continuous Flow Lithography (literal)

Abstract

• A new approach for microfluidics- based production of polymeric particles, namely two- photon continuous flow lithography, is reported. This technique takes advantage of two- photon lithography to create objects with sub- micrometer and 3D features, and overcomes the traditional process limitations of two- photon lithography by using multiple beam production under continuous flow. Polymeric fibers, helical and bow- tie particles with sub- diffraction resolution and surface roughness as low as 10 nm are demonstrated. (literal)

Editore

• WILEY-V C H VERLAG GMBH, (Editore)

Prodotto di

• Nanocompositi (MD.P06.015.002) (Modulo)
• Nanotecnologie della materia soffice (MD.P06.008.005) (Modulo)

Autore CNR

• Marco Polo (Unità di personale esterno)
• Simona Cristina Laza (Persona)
• ANDREA CAMPOSEO (Persona)
• DARIO PISIGNANO (Persona)
• ANTONIO ALVARO RANHA NEVES (Unità di personale interno)

Insieme di parole chiave

• Keywords of "Two-Photon Continuous Flow Lithography" (Insieme di parole chiave)

Incoming links:

Autore CNR di

• DARIO PISIGNANO (Persona)
• Simona Cristina Laza (Persona)
• ANDREA CAMPOSEO (Persona)
• ANTONIO ALVARO RANHA NEVES (Unità di personale interno)
• Marco Polo (Unità di personale esterno)

Prodotto

• Nanocompositi (MD.P06.015.002) (Modulo)
• Nanotecnologie della materia soffice (MD.P06.008.005) (Modulo)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Advanced materials (Rivista)

Editore di

• WILEY-V C H VERLAG GMBH, (Editore)

Insieme di parole chiave di

• Keywords of "Two-Photon Continuous Flow Lithography" (Insieme di parole chiave)