MOCVD of Al2O3 films using new dialkylaluminum acetylacetonate precursors: growth kinetics and process yields (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• MOCVD of Al2O3 films using new dialkylaluminum acetylacetonate precursors: growth kinetics and process yields (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2001-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• G.A. Battiston, G. Carta, G. Cavinato, R. Gerbasi, M. Porchia, and G. Rossetto (2001)
  MOCVD of Al2O3 films using new dialkylaluminum acetylacetonate precursors: growth kinetics and process yields
  in Chemical vapor deposition (Print)
  (literal)

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• G.A. Battiston, G. Carta, G. Cavinato, R. Gerbasi, M. Porchia, and G. Rossetto (literal)

Pagina inizio

• 69 (literal)

Pagina fine

• 74 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 7 (literal)

Rivista

• Chemical vapor deposition (Rivista)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Titolo

• MOCVD of Al2O3 films using new dialkylaluminum acetylacetonate precursors: growth kinetics and process yields (literal)

Prodotto di

• Istituto di chimica inorganica e delle superfici (ICIS) (Istituto)

Autore CNR

• GIOVANNI CARTA (Unità di personale interno)
• GILBERTO LUCIO ROSSETTO (Persona)
• MARINA PORCHIA (Unità di personale interno)
• ROSALBA GERBASI (Unità di personale interno)
• GIOVANNI BATTISTON (Unità di personale interno)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di chimica inorganica e delle superfici (ICIS) (Istituto)

Autore CNR di

• GILBERTO LUCIO ROSSETTO (Persona)
• MARINA PORCHIA (Unità di personale interno)
• ROSALBA GERBASI (Unità di personale interno)
• GIOVANNI CARTA (Unità di personale interno)
• GIOVANNI BATTISTON (Unità di personale interno)

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• Chemical vapor deposition (Rivista)