Chemical, morphological and nano-mechanical characterizations of Al2O3 thin films depositrd by metal organic chemical vapour deposition on AISI 304 stainless steel (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Chemical, morphological and nano-mechanical characterizations of Al2O3 thin films depositrd by metal organic chemical vapour deposition on AISI 304 stainless steel (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2005-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1016/j.electacta.2004.10.097 (literal)

Alternative label

• M. Natali; G. Carta; V. Rigato; G. Rossetto; G. Salmaso; P. Zanella (2005)
  Chemical, morphological and nano-mechanical characterizations of Al2O3 thin films depositrd by metal organic chemical vapour deposition on AISI 304 stainless steel
  in Electrochimica acta; Elsevier, Amsterdam (Paesi Bassi)
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• M. Natali; G. Carta; V. Rigato; G. Rossetto; G. Salmaso; P. Zanella (literal)

Pagina inizio

• 4615 (literal)

Pagina fine

• 4620 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#url

• http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0013468605005116 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 50 (literal)

Rivista

• Electrochimica acta (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 6 (literal)

Note

• Scopu (literal)
• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• Istituto di chimica inorganica e delle superfici / Istituto di chimica inorganica e delle superfici / INFN -Laboratori di Legnaro / Istituto di chimica inorganica e delle superfici / Istituto di chimica inorganica e delle superfici / Istituto di chimica inorganica e delle superfici (literal)

Titolo

• Chemical, morphological and nano-mechanical characterizations of Al2O3 thin films depositrd by metal organic chemical vapour deposition on AISI 304 stainless steel (literal)

Abstract

• Amorphous alumina coatings of different thickness have been deposited on AISI 304 stainless steel substrates by MOCVD in a hot wall reactor at 380 æC under O2/H2O atmosphere. The used aluminium precursor was the high volatile and easy to prepare dimethyl-aluminumisopropoxide. Selected films were annealed in N2 and O2 atmosphere at 500 and 700 æC to evaluate the effects of the thermal treatments on the morphology and on the nano-mechanical properties of the coatings. X-ray diffraction and Rutherford backscattering spectroscopy measurements indicated that both the as grown and annealed films were amorphous and very pure with the correct Al2O3 stoichiometry. The surface morphology, investigated by atomic force microscopy, was free of cracks with a roughness of the films that increases with deposition time and with annealing in oxygen atmosphere. The hardness and the elastic modulus of the films and of the AISI 304 stainless steel substrate were measured by load-depth nano-indentation tests. The results highlighted a significant increase in the Berkovich hardness of the coated samples compared to that of the bulk AISI 304 stainless steel. (literal)

Editore

• Elsevier (Editore)

Prodotto di

• Istituto di chimica inorganica e delle superfici (ICIS) (Istituto)
• Progettazione di Nuovi Precursori Molecolari per Nanosistemi e Ottimizzazione del Processo MOCVD per la Fabbricazione e/o Modifica delle Funzionalità delle Superfici (PM.P05.001.001) (Modulo)

Autore CNR

• GILBERTO LUCIO ROSSETTO (Persona)
• GIOVANNI CARTA (Unità di personale interno)
• MARCO STEFANO NATALI (Unità di personale interno)
• PIERINO ZANELLA (Unità di personale interno)

Insieme di parole chiave

• Parole chiave di "Chemical, morphological and nano-mechanical characterizations of Al2O3 thin films depositrd by metal organic chemical vapour deposition on AISI 304 stainless steel" (Insieme di parole chiave)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di chimica inorganica e delle superfici (ICIS) (Istituto)
• Progettazione di Nuovi Precursori Molecolari per Nanosistemi e Ottimizzazione del Processo MOCVD per la Fabbricazione e/o Modifica delle Funzionalità delle Superfici (PM.P05.001.001) (Modulo)

Autore CNR di

• GILBERTO LUCIO ROSSETTO (Persona)
• MARCO STEFANO NATALI (Unità di personale interno)
• GIOVANNI CARTA (Unità di personale interno)
• PIERINO ZANELLA (Unità di personale interno)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Electrochimica acta (Rivista)

Editore di

• Elsevier (Editore)

Insieme di parole chiave di

• Parole chiave di "Chemical, morphological and nano-mechanical characterizations of Al2O3 thin films depositrd by metal organic chemical vapour deposition on AISI 304 stainless steel" (Insieme di parole chiave)