Plasma enhanced chemical vapor deposition of Er-doped silicon thin films (Contributo in atti di convegno)

Type
Label
  • Plasma enhanced chemical vapor deposition of Er-doped silicon thin films (Contributo in atti di convegno) (literal)
Anno
  • 2003-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Alternative label
  • M.M.Giangregorio, M.Losurdo, P.Capezzuto, G.Bruno (2003)
    Plasma enhanced chemical vapor deposition of Er-doped silicon thin films
    in Electroc. Soc. Proceed. Vol. 2003-08, p. 716 (2003), Paris
    (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
  • M.M.Giangregorio, M.Losurdo, P.Capezzuto, G.Bruno (literal)
Titolo
  • Plasma enhanced chemical vapor deposition of Er-doped silicon thin films (literal)
Prodotto di
Autore CNR

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