MOCVD of nanocrystalline Fe2O3-ZrO2 and Fe2O3-Y2O3-ZrO2 thin films (Contributo in atti di convegno)

Type
Label
  • MOCVD of nanocrystalline Fe2O3-ZrO2 and Fe2O3-Y2O3-ZrO2 thin films (Contributo in atti di convegno) (literal)
Anno
  • 2003-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Alternative label
  • G.A. Battiston,1 R. Gerbasi,1 D. Berto,1 D. Barreca,2 E. Tondello3 (2003)
    MOCVD of nanocrystalline Fe2O3-ZrO2 and Fe2O3-Y2O3-ZrO2 thin films
    in International Symposium on Chemical Vapor Deposition: CVD-XVI and EUROCVD14, 203rd Meeting of The Electrochemical Society, Paris, France, 27 Aprile-2 Maggio 2003
    (literal)
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  • G.A. Battiston,1 R. Gerbasi,1 D. Berto,1 D. Barreca,2 E. Tondello3 (literal)
Pagina inizio
  • 1168 (literal)
Pagina fine
  • 1173 (literal)
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  • Electrochemical Society Proceedings (Chemical Vapor Deposition XVI and EUROCVD 14) (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#volumeInCollana
  • 2003-08 (literal)
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  • Electrochemical Society Proceedings Volume 2003-08, Editors M.D. Allendorf, F. Maury and F. Teyssandier (literal)
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  • 6 (literal)
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  • 1: Istituto di Chimica Inorganica e delle Superfici del C.N.R., Corso Stati Uniti, 4 - 35127 Padova, Italy 2: b Istituto di Scienze e Tecnologie Molecolari del C.N.R. and INSTM, Via Marzolo, 1 - 35131 Padova, Italy 3: Dipartimento di Chimica Inorganica, Metallorganica ed Analitica and INSTM - Università di Padova, Via Loredan, 4 - 35131 Padova, Italy (literal)
Titolo
  • MOCVD of nanocrystalline Fe2O3-ZrO2 and Fe2O3-Y2O3-ZrO2 thin films (literal)
Abstract
  • Nanocrystalline Fe2O3-ZrO2 thin films were synthesised via CVD on quartz substrates using Fe(acac)3 (iron tris-(2,4 pentanedionate), and Zr(OiPr)3(thd) (zirconium tris-isopropoxy 2,2-6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate) as precursors. In order to assess a possibile stabilization of cubic zirconia, Fe2O3-Y2O3-ZrO2 films were deposited. To this aim, Y(acac)3.xH2O (yttrium tris-(2,4 pentanedionate)) was employed as Y precursor. Film composition, microstructure and morphology were investigated as a function of the preparative conditions. In particular, the films were characterised by X-ray diffraction (XRD), X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) and Atomic Force Microscopy (AFM). (literal)
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