Design of MOCVD Film Growth in a Hot Wall Tubular Reactor (Contributo in atti di convegno)

Type

• Contributo in atti di convegno (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Design of MOCVD Film Growth in a Hot Wall Tubular Reactor (Contributo in atti di convegno) (literal)

Anno

• 2003-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• Battiston Giovanni A., Gerbasi Rosalba and Raic Karlo T. (2003)
  Design of MOCVD Film Growth in a Hot Wall Tubular Reactor
  
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Battiston Giovanni A., Gerbasi Rosalba and Raic Karlo T. (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#note

• Electrochemical Society Proceedings Volume 2003-08, Editors M.D. Allendorf, F. Maury and F. Teyssandier (literal)

Titolo

• Design of MOCVD Film Growth in a Hot Wall Tubular Reactor (literal)

Prodotto di

• Institute of inorganic chemistry and surfaces (ICIS) (Istituto)

Autore CNR

• ROSALBA GERBASI (Unità di personale interno)
• GIOVANNI BATTISTON (Unità di personale interno)

Incoming links:

Prodotto

• Institute of inorganic chemistry and surfaces (ICIS) (Istituto)

Autore CNR di

• ROSALBA GERBASI (Unità di personale interno)
• GIOVANNI BATTISTON (Unità di personale interno)