Structural optical study of high-dielectric-constant oxide films (Articolo in rivista)

Type

• Articolo in rivista (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Structural optical study of high-dielectric-constant oxide films (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2006-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1016/j.apsusc.2006.06.004 (literal)

Alternative label

• Losurdo M, Giangregorio MM, Luchena M, Capezzuto P, Bruno G, Toro RG, Malandrino G, Fragala IL, Lo Nigro R (2006)
  Structural optical study of high-dielectric-constant oxide films
  in Applied surface science; elsevier B.V., Amsterdam (Paesi Bassi)
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Losurdo M, Giangregorio MM, Luchena M, Capezzuto P, Bruno G, Toro RG, Malandrino G, Fragala IL, Lo Nigro R (literal)

Pagina inizio

• 322 (literal)

Pagina fine

• 327 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 253 (literal)

Rivista

• Applied surface science (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#pagineTotali

• 6 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• Univ Bari, CNR, IMIP, Dept Chem, I-70126 Bari, Italy; Univ Bari, INSTM, I-70126 Bari, Italy; Univ Catania, Dipartimento Sci Chim, I-95125 Catania, Italy; INSTM, UdR, I-95125 Catania, Italy; CNR, IMM, I-95125 Catania, Italy (literal)

Titolo

• Structural optical study of high-dielectric-constant oxide films (literal)

Abstract

• High-k polycrystalline Pr2O3 and amorphous LaAlO3 oxide thin films deposited on Si(0 0 1) are studied. The microstructure is investigated using X-ray diffraction and scanning electron microscopy. Optical properties are determined in the 0.75-6.5 eV photon energy range using spectroscopic ellipsometry. The polycrystalline Pr2O3 films have an optical gap of 3.86 eV and a dielectric constant of 16-26, which increases with film thickness. Similarly, very thin amorphous LaAlO3 films have the optical gap of 5.8 eV, and a dielectric constant below 14 which also increases with film thickness. The lower dielectric constant compared to crystalline material is an intrinsic characteristic of amorphous films. (literal)

Editore

• elsevier B.V. (Editore)

Prodotto di

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Materiali multifunzionali, e innovativi per componenti integrati (MD.P05.003.002) (Modulo)

Autore CNR

• RAFFAELLA LO NIGRO (Unità di personale interno)
• MARIA MICHELA GIANGREGORIO (Persona)
• PIO CAPEZZUTO (Persona)
• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)
• ROBERTA GRAZIA TORO (Unità di personale interno)

Insieme di parole chiave

• Keywords of "Structural optical study of high-dielectric-constant oxide films" (Insieme di parole chiave)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Materiali multifunzionali, e innovativi per componenti integrati (MD.P05.003.002) (Modulo)

Autore CNR di

• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)
• RAFFAELLA LO NIGRO (Unità di personale interno)
• MARIA MICHELA GIANGREGORIO (Persona)
• PIO CAPEZZUTO (Persona)
• ROBERTA GRAZIA TORO (Unità di personale interno)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Applied surface science (Rivista)

Editore di

• elsevier B.V. (Editore)

Insieme di parole chiave di

• Keywords of "Structural optical study of high-dielectric-constant oxide films" (Insieme di parole chiave)