Electrochemistry layer by layer growth and characterization of copper sulur thin films on Ag(111) (Articolo in rivista)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Articolo in rivista (Classe)

Label

• Electrochemistry layer by layer growth and characterization of copper sulur thin films on Ag(111) (Articolo in rivista) (literal)

Anno

• 2011-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.1016/j.electacta.2011.10.004 (literal)

Alternative label

• Innocenti M., Bencistà I., Bellandi S., Bianchini C., Di Benedetto F., Lavacchi A., F. Vizza , Foresti M.L. (2011)
  Electrochemistry layer by layer growth and characterization of copper sulur thin films on Ag(111)
  in Electrochimica acta
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Innocenti M., Bencistà I., Bellandi S., Bianchini C., Di Benedetto F., Lavacchi A., F. Vizza , Foresti M.L. (literal)

Pagina inizio

• 599 (literal)

Pagina fine

• 605 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#numeroVolume

• 58 (literal)

Rivista

• Electrochimica acta (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#note

• doi:10.1016/j.electacta.2011.10.04 (literal)

Note

• ISI Web of Science (WOS) (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• Istituto di Chimica dei Composti Organometallici (ICCOM-CNR), via Madonna del Piano 10, 50019 Sesto Fiorentino (FI), Italy; Department of Chemistry, University of Florence, via della Lastruccia 3, 50019 Sesto Fiorentino (FI), Italy (literal)

Titolo

• Electrochemistry layer by layer growth and characterization of copper sulur thin films on Ag(111) (literal)

Abstract

• Copper sulfide (CuS) thin films were grown on a single crystal Ag(1 1 1) substrate by Electrochemical Atomic Layer Deposition (ECALD) method, i.e., by alternated surface limited deposition of copper and sulfur. A detailed investigation of deposition of Cu on S allowed to find the best conditions for copper deposition. The electrochemical characterization of deposits obtained with different deposition cycles suggests a 1:1 stoichiometric ratio between Cu and S corresponding to Cu monosulfide. The compositional analysis was performed by X-rays Photoelectron Spectroscopy (XPS), and the morphological was investigated by Atomic Force Microscopy (AFM) for deposits formed with 20 ECALD cycles. (literal)

Prodotto di

• Catalisi ed elettrocatalisi per la produzione sostenibile di energia e la trasformazione di risorse rinnovabili (PM.P03.001.001) (Modulo)
• Istituto di chimica dei composti organo metallici (ICCOM) (Istituto)

Autore CNR

• ALESSANDRO LAVACCHI (Unità di personale interno)
• CLAUDIO BIANCHINI (Persona)
• FRANCESCO VIZZA (Unità di personale interno)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di chimica dei composti organo metallici (ICCOM) (Istituto)
• Catalisi ed elettrocatalisi per la produzione sostenibile di energia e la trasformazione di risorse rinnovabili (PM.P03.001.001) (Modulo)

Autore CNR di

• FRANCESCO VIZZA (Unità di personale interno)
• CLAUDIO BIANCHINI (Persona)
• ALESSANDRO LAVACCHI (Unità di personale interno)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• Electrochimica acta (Rivista)