Low temperature deposition of microcrystalline silicon films by plasma assisted-CVD (Contributo in atti di convegno)

Type
Label
  • Low temperature deposition of microcrystalline silicon films by plasma assisted-CVD (Contributo in atti di convegno) (literal)
Anno
  • 2003-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Alternative label
  • A. Grimaldi, A. Sacchetti, M. Losurdo, M. Ambrico, P. Capezzuto, G. Bruno (2003)
    Low temperature deposition of microcrystalline silicon films by plasma assisted-CVD
    in Chemical Vapor Deposition XVI and EUROCVD 14, 27 April-2Maggio 2003, Paris, Paris
    (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
  • A. Grimaldi, A. Sacchetti, M. Losurdo, M. Ambrico, P. Capezzuto, G. Bruno (literal)
Titolo
  • Low temperature deposition of microcrystalline silicon films by plasma assisted-CVD (literal)
Prodotto di
Autore CNR

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