Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (Rapporti progetti di ricerca)

Type

• Rapporti progetti di ricerca (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (Rapporti progetti di ricerca) (literal)

Anno

• 2005-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• Impronta M, Farris S (2005)
  Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash
  
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Impronta M, Farris S (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#note

• Contratto attivo ST Microelectronics - CNR-IMM Bologna (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#supporto

• Memorie interne (literal)

Titolo

• Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (literal)

Prodotto di

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Tecniche di caratterizzazione elettrica ed affidabilistica di dispositivi nanoelettronici e microelettronici ultrascalati (MD.P05.017.002) (Modulo)

Autore CNR

• MAURIZIO PIO IMPRONTA (Unità di personale interno)

Incoming links:

Prodotto

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Tecniche di caratterizzazione elettrica ed affidabilistica di dispositivi nanoelettronici e microelettronici ultrascalati (MD.P05.017.002) (Modulo)

Autore CNR di

• MAURIZIO PIO IMPRONTA (Unità di personale interno)