Metodo e apparecchiatura di realizzazione di film sottili su un substrato tramite processo di deposizione a elettroni pulsati (Brevetto)

Type
Label
  • Metodo e apparecchiatura di realizzazione di film sottili su un substrato tramite processo di deposizione a elettroni pulsati (Brevetto) (literal)
Anno
  • 2008-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
Alternative label
  • Bissoli F.; Ferrari C.; Gilioli E.; Mazzer M.; Pattini F.; Rampino S. (2008)
    Metodo e apparecchiatura di realizzazione di film sottili su un substrato tramite processo di deposizione a elettroni pulsati
    MI2008A002090
    (literal)
Titolo
  • Metodo e apparecchiatura di realizzazione di film sottili su un substrato tramite processo di deposizione a elettroni pulsati (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori
  • Bissoli F.; Ferrari C.; Gilioli E.; Mazzer M.; Pattini F.; Rampino S. (literal)
Numero brevetto
  • MI2008A002090 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#note
  • Patent n. MI2008A002090. Registered in Milano on 2008. (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#descrizioneSinteticaDelProdotto
  • A method is proposed to determine with a great accuracy the amount of material deposited after a pulsed electron beam in vacuum (literal)
Anno di deposito
  • 2008 (literal)
Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni
  • CNR-IMEM, Parma (literal)
Titolo
  • Metodo e apparecchiatura di realizzazione di film sottili su un substrato tramite processo di deposizione a elettroni pulsati (literal)
Prodotto di
Autore CNR
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