Low-temperature growth of HfO2 dielectric layers by Plasma-Enhanced CVD (Abstract/Poster in atti di convegno)

Type

• Abstract/Poster in atti di convegno (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Low-temperature growth of HfO2 dielectric layers by Plasma-Enhanced CVD (Abstract/Poster in atti di convegno) (literal)

Anno

• 2003-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• Losurdo M., Giangregorio M.M., Luchena M., Capezzuto P., Bruno G., Barreca D., Gasparotto A., Tondello E. (2003)
  Low-temperature growth of HfO2 dielectric layers by Plasma-Enhanced CVD
  in 2003 MRS Fall Meeting, Boston, USA
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Losurdo M., Giangregorio M.M., Luchena M., Capezzuto P., Bruno G., Barreca D., Gasparotto A., Tondello E. (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#note

• 1-5 dicembre 2003 (literal)

Titolo

• Low-temperature growth of HfO2 dielectric layers by Plasma-Enhanced CVD (literal)

Prodotto di

• Institute of molecular science and technologies (ISTM) (Istituto)

Autore CNR

• DAVIDE BARRECA (Unità di personale interno)

Incoming links:

Prodotto

• Institute of molecular science and technologies (ISTM) (Istituto)

Autore CNR di

• DAVIDE BARRECA (Unità di personale interno)