Electronic properties of carbon nitride (a-CNx) thin films grown by a DC bias confined plasma assisted reactive PLD (Abstract/Poster in atti di convegno)

Type

• Abstract/Poster in atti di convegno (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Electronic properties of carbon nitride (a-CNx) thin films grown by a DC bias confined plasma assisted reactive PLD (Abstract/Poster in atti di convegno) (literal)

Anno

• 2010-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• E. Cappelli, S. Kaciulis, D.M. Trucchi, A. Zanza, S. Orlando, V. Valentini, A. Mezzi (2010)
  Electronic properties of carbon nitride (a-CNx) thin films grown by a DC bias confined plasma assisted reactive PLD
  in E-MRS 2010 Spring Meeting Symposium L “Carbon- or nitrogen-containing nanostructured composite films, Strasbourg, Francia, 7-11 June 2010
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• E. Cappelli, S. Kaciulis, D.M. Trucchi, A. Zanza, S. Orlando, V. Valentini, A. Mezzi (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#url

• http://www.emrs-strasbourg.com/index.php?option=com_content&task=view&Itemid=114&id=318&PHPSESSID=1c1f4b75d852be06834312c475d446b6 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#titoloVolume

• E-MRS 2010 Spring Meeting (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#descrizioneSinteticaDelProdotto

• Caratterizzazione elettronica di film di CNx prodotti mediante ablazione laser reattiva in plasma di azoto generato da radiofrequenza. (literal)

Note

• Abstract (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• IMIP - CNR ISMN - CNR (literal)

Titolo

• Electronic properties of carbon nitride (a-CNx) thin films grown by a DC bias confined plasma assisted reactive PLD (literal)

Prodotto di

• Materiali e Dispositivi a base Carbonio (MD.P05.022.001) (Modulo)
• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Interazione Laser Materia (MD.P03.030.001) (Modulo)
• Istituto per lo studio dei materiali nanostrutturati (ISMN) (Istituto)

Autore CNR

• DANIELE MARIA TRUCCHI (Persona)
• STEFANO ORLANDO (Unità di personale interno)
• EMILIA CAPPELLI (Unità di personale interno)
• ANDREA ZANZA (Unità di personale esterno)
• SAULIUS KACIULIS (Persona)

Insieme di parole chiave

• Keywords of "Electronic properties of carbon nitride (a-CNx) thin films grown by a DC bias confined plasma assisted reactive PLD" (Insieme di parole chiave)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Istituto per lo studio dei materiali nanostrutturati (ISMN) (Istituto)
• Materiali e Dispositivi a base Carbonio (MD.P05.022.001) (Modulo)
• Interazione Laser Materia (MD.P03.030.001) (Modulo)

Autore CNR di

• EMILIA CAPPELLI (Unità di personale interno)
• DANIELE MARIA TRUCCHI (Persona)
• STEFANO ORLANDO (Unità di personale interno)
• SAULIUS KACIULIS (Persona)
• ANDREA ZANZA (Unità di personale esterno)

Insieme di parole chiave di

• Keywords of "Electronic properties of carbon nitride (a-CNx) thin films grown by a DC bias confined plasma assisted reactive PLD" (Insieme di parole chiave)