Plasma Assisted MOCVD growth of Er2O3 thin films (Abstract/Poster in atti di convegno)

Type

• Abstract/Poster in atti di convegno (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Plasma Assisted MOCVD growth of Er2O3 thin films (Abstract/Poster in atti di convegno) (literal)

Anno

• 2007-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• M. Giangregorio, M. Losurdo, A. Sacchetti, P. Capezzuto,G. Bruno (2007)
  Plasma Assisted MOCVD growth of Er2O3 thin films
  in 18th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC-18), Kyoto, Japan
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• M. Giangregorio, M. Losurdo, A. Sacchetti, P. Capezzuto,G. Bruno (literal)

Titolo

• Plasma Assisted MOCVD growth of Er2O3 thin films (literal)

Prodotto di

• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)
• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)

Autore CNR

• ALBERTO SACCHETTI (Unità di personale interno)
• MARIA MICHELA GIANGREGORIO (Persona)
• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)
• PIO CAPEZZUTO (Persona)
• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di Nanotecnologia (NANOTEC) (Istituto)
• Plasmi per la Scienza dei Materiali (MD.P03.025.001) (Modulo)

Autore CNR di

• GIOVANNI BRUNO (Unità di personale interno)
• MARIA LOSURDO (Unità di personale interno)
• ALBERTO SACCHETTI (Unità di personale interno)
• MARIA MICHELA GIANGREGORIO (Persona)
• PIO CAPEZZUTO (Persona)