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Tecniche spettroscopiche e optoelettroniche per lo studio di superfici e interfacce (MD.P03.027.002)
- Type
- Label
- Tecniche spettroscopiche e optoelettroniche per lo studio di superfici e interfacce (MD.P03.027.002) (literal)
- Codice
- Anno di chiusura previsto
- 2017-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Istituto esecutore
- Abstract
- La realizzazione di interfacce ibride molecola /semiconduttore inorganico (Si), non è esente da limitazioni connesse con le proprietà chimico/fisiche intrinseche della superficie del semiconduttore. Queste limitazioni non consentono perciò di realizzare interfacce che potrebbero risultare interessanti dal punto di vista tecnologico e che utilizzano supporti di uso comune nell' elettronica tradizionale. E' noto che i trattamenti superficiali via plasma costituiscono un metodo per la modifica delle proprietà chimico-fisiche e soprattutto del trasporto elettronico attraverso l'interfaccia. In questo progetto scariche a barriera a pressione atmosferica saranno usate come tecnica innovativa allo scopo di modificare queste proprietà per la realizzazione di dispositivi ibridi molecola/semiconduttore inorganico ed in particolare di melanina/Silicio. Si studieranno gli effetti del trattamento con plasma DBD sul trasporto elettronico delle superficie e la caratterizzazione optoelettronica dell'interfaccia costruita. (literal)
- Nome
- Tecniche spettroscopiche e optoelettroniche per lo studio di superfici e interfacce (literal)
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