Tecniche di caratterizzazione elettrica ed affidabilistica di dispositivi nanoelettronici e microelettronici ultrascalati (MD.P05.017.002)
- Type
- Modulo (Classe)
- Label
- Tecniche di caratterizzazione elettrica ed affidabilistica di dispositivi nanoelettronici e microelettronici ultrascalati (MD.P05.017.002) (literal)
- Prodotto
- Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (Rapporti progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)
- Reliability assessment of multi-via Cu-damascene structures by wafer-level isothermal electromigration tests (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Electromigration Reliability Assessment of Cu-based Metallization Systems by a Wafer-Level Approach (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Sistema per prove rapide, a livello wafer, di elettromigrazione con tecnica isoterma (ISOT), particolarmente orientato a misure su strutture Cu-damascene (Progetti) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1725)
- Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (Rapporti progetti di ricerca) (Prodotto della ricerca)
- Resistance Instability in Cu-damascene Structures during the Isothermal Electromigration Test (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (Rapporti progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)
- Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (Rapporti progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)
- Electromigration Reliability Assessment of Cu-based Metallization Systems by a Wafer-Level Approach (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Standard JEDEC JESD61A.01 Isothermal Electromigration Test Procedure (Altro prodotto) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1731)
- Codice
- MD.P05.017.002 (literal)
- Anno di chiusura previsto
- 2009-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Istituto esecutore
- Abstract
- Questo modulo raggruppa, con il denominatore comune della caratterizzazione elettrica, due attività disgiunte solo apparentemente, poiché richiedono competenze affini. La prima attività riguarda lo sviluppo di tecniche di misura delle proprietà elettriche dei nanotubi di carbonio. In questo campo la conoscenza è ancora allo stato iniziale quando, come nel caso di questa commessa, si passa da un approccio puramente speculativo ad un'ottica applicativa. I maggiori problemi si riscontrano nella scarsa ripetibilità delle misure elettriche eseguite sui nanotubi. La seconda attività è centrata sullo studio dell'affidabilità delle metallizzazioni nella microelettronica ultra scalata, dove le linee di interconnessione hanno raggiunto dimensioni minime di qualche decina di nanometri e sono altamente soggette al fenomeno dell'elettromigrazione, esasperato dalla elevatissima densità di corrente presente nelle linee. L'attività di ricerca sarà focalizzata sui metodi rapidi di misura, molto interessanti per l'industria microelettronica grazie al loro basso costo, ma che danno risultati di difficile interpretazione, se non sono accuratamente definiti e applicati. (literal)
- Nome
- Tecniche di caratterizzazione elettrica ed affidabilistica di dispositivi nanoelettronici e microelettronici ultrascalati (literal)
- Descrizione
- Descrizione dello stato di avanzamento delle attività del modulo "Tecniche di caratterizzazione elettrica ed affidabilistica di dispositivi nanoelettronici e microelettronici ultrascalati (MD.P05.017.002)" (Descrizione stato avanzamento attività)
- Descrizione del modulo "Tecniche di caratterizzazione elettrica ed affidabilistica di dispositivi nanoelettronici e microelettronici ultrascalati (MD.P05.017.002)" (Descrizione modulo)
- Descrizione collaborazioni del modulo "Tecniche di caratterizzazione elettrica ed affidabilistica di dispositivi nanoelettronici e microelettronici ultrascalati (MD.P05.017.002)" (Descrizione collaborazioni)
- Modulo di
- Gestore
- MAURIZIO PIO IMPRONTA (Unità di personale interno)
Incoming links:
- Modulo
- Istituto esecutore di
- Gestore di
- MAURIZIO PIO IMPRONTA (Unità di personale interno)
- Prodotto di
- Electromigration Reliability Assessment of Cu-based Metallization Systems by a Wafer-Level Approach (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Reliability assessment of multi-via Cu-damascene structures by wafer-level isothermal electromigration tests (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Electromigration Reliability Assessment of Cu-based Metallization Systems by a Wafer-Level Approach (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Resistance Instability in Cu-damascene Structures during the Isothermal Electromigration Test (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Sistema per prove rapide, a livello wafer, di elettromigrazione con tecnica isoterma (ISOT), particolarmente orientato a misure su strutture Cu-damascene (Progetti) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1725)
- Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (Rapporti progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)
- Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (Rapporti progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)
- Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (Rapporti progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)
- Misure di Elettromigrazione a Livello Wafer (WLR) con Tecnica Isoterma (ISOT) su Strutture Realizzate in Tecnologia Cu-damascene per Memorie Flash (Rapporti progetti di ricerca) (Prodotto della ricerca)
- Standard JEDEC JESD61A.01 Isothermal Electromigration Test Procedure (Altro prodotto) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1731)
- http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID65727
- http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID65424
- http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID151758
- http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID65506
- Descrizione di
- Descrizione del modulo "Tecniche di caratterizzazione elettrica ed affidabilistica di dispositivi nanoelettronici e microelettronici ultrascalati (MD.P05.017.002)" (Descrizione modulo)
- Descrizione collaborazioni del modulo "Tecniche di caratterizzazione elettrica ed affidabilistica di dispositivi nanoelettronici e microelettronici ultrascalati (MD.P05.017.002)" (Descrizione collaborazioni)
- Descrizione dello stato di avanzamento delle attività del modulo "Tecniche di caratterizzazione elettrica ed affidabilistica di dispositivi nanoelettronici e microelettronici ultrascalati (MD.P05.017.002)" (Descrizione stato avanzamento attività)
