Dispositivi per iperfrequenze (MD.P05.001.002)
- Type
- Modulo (Classe)
- Label
- Dispositivi per iperfrequenze (MD.P05.001.002) (literal)
- Prodotto
- Fabrication and non-linear characterization of GaN HEMT on SiC and sapphire for high power applications (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Very High Performance GaN HEMT devices by Optimized Buffer and Field Plate Technology (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Stable p-channel polysilicon TFTs fabricated by laser doping technique (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Field Plate approach to AlGaN/GaN HEMTs for high voltage operation (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Codice
- MD.P05.001.002 (literal)
- Anno di chiusura previsto
- 2006-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Istituto esecutore
- Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN) (Istituto)
- Primo anno di attività
- 2005-01-01T00:00:00+01:00 (literal)
- Abstract
- Nell'ambito della ricerca sui dispositivi per iperfrequenze, sono state sviluppate la tecnologie per la realizzazione di dispostivi HEMT basati su GaAs e GaN per applicazioni di potenza, piccoli segnali e dispositivi di switch. La fabbricazione dei dispositivi è stata messo a punto in collaborazione con Selex-SI e prevede lo sviluppando congiuntamente processi per ottenere una resa finale compatibile con le esigenze industriali. In particolare, l'utilizzo dell'Electron Beam Lithography per la definizione del contatto di gate permette la realizzazione di transistor con dimensioni del contatto inferiori a 250 nm con conseguente aumento della frequenza massima dei dispositivi. Tale attività è supportata da contratti con Selex-SI a dal progetto Europeo CEPA2 KORRIGAN. Sono stati inoltre sviluppati processi di fabbricazione di dispositivi che permettano lo studio degli strati attivi del dispositivo (eterogiunzione e gas di elettroni bidimensionali. (literal)
- Nome
- Dispositivi per iperfrequenze (literal)
- Descrizione
- Descrizione collaborazioni del modulo "Dispositivi per iperfrequenze (MD.P05.001.002)" (Descrizione collaborazioni)
- Descrizione del modulo "Dispositivi per iperfrequenze (MD.P05.001.002)" (Descrizione modulo)
- Descrizione dello stato di avanzamento delle attività del modulo "Dispositivi per iperfrequenze (MD.P05.001.002)" (Descrizione stato avanzamento attività)
- Modulo di
- Gestore
- LUIGI MARIUCCI (Unità di personale interno)
Incoming links:
- Prodotto di
- Very High Performance GaN HEMT devices by Optimized Buffer and Field Plate Technology (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Field Plate approach to AlGaN/GaN HEMTs for high voltage operation (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Stable p-channel polysilicon TFTs fabricated by laser doping technique (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Fabrication and non-linear characterization of GaN HEMT on SiC and sapphire for high power applications (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Modulo
- Istituto esecutore di
- Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN) (Istituto)
- Gestore di
- LUIGI MARIUCCI (Unità di personale interno)
- Descrizione di
- Descrizione collaborazioni del modulo "Dispositivi per iperfrequenze (MD.P05.001.002)" (Descrizione collaborazioni)
- Descrizione dello stato di avanzamento delle attività del modulo "Dispositivi per iperfrequenze (MD.P05.001.002)" (Descrizione stato avanzamento attività)
- Descrizione del modulo "Dispositivi per iperfrequenze (MD.P05.001.002)" (Descrizione modulo)