GIOVANNI MANNINO
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- Employment relationship with CNR of DOTT. GIOVANNI MANNINO (Rapporto con CNR)
- Autore CNR di
- Electrical Properties of Ultrathin SiO2 Layer Deposited at 50 degrees C by Inductively Coupled Plasma-Enahnced Chemical Vapor Deposition (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Electrical characterisation of a-Si:H(n)/c-Si(p) heterostructures for solar cell applications (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Computational methods for the simulation of the excimer laser annealing in MOS technology (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Transient crystal grain nucleation in As doped amorphous silicon (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Influence of co-implantation on the activation and diffusion of ultra-shallow extension implantation (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Pseudoepitaxial transrotational structures in 14 nm-thick NiSi layers on [001] silicon (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Ultra-shallow junction formation by excimer laser annealing of ultra-low energy B implanted in Si (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Molecular Doping applied to Si Nanowires array based Solar Cells (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Crystallization of implanted amorphous silicon during millisecond annealing by infrared laser irradiation (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Defect generation and evolution in laser processing of Si (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- THERMAL AND NON-THERMAL KINETICS OF DEFECTS AND DOPANT IN SI (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Defect and dopant kinetics in laser anneals of Si (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Effect of oxygen on the diffusion of nitrogen implanted in silicon (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Electrical activation of B and As implants in Silicon On Insulator (SOI) wafers (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Giant photoluminescence emission in crystalline faceted Si grains (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Nano-crystalline Si formed by infrared laser irradiation of CVD deposited a-Si:H (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Crystallization by furnace annealing and laser annealing of highly dose Arsenic implanted amorphous Silicon (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Tailored Voltage deposition of µc-Si1-xCx:H from H2 diluted SiH4 and CH4 gas mixtures (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Strain release in low temperature RF-PECVD epitaxial growth (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Thin nickel silicide layer formation on Silicon On Insulator (SOI) materials (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Shallow BF2 implants in Xe-bombardment-preamorphized Si: The interaction between Xe and F (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Thermal stability of nickel silicide on silicon on insulator (SOI) material (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Role of the indium-carbon interaction on In diffusion and activation in Si (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Highly Active Junctions Formed in Crystalline Silicon by Infrared Laser Annealing (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Raman and photoluminescence spectroscopy of Si nanocrystals: Evidence of a form factor (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Structural and photoluminescence properties of SiOxNy irradiated by CW laser IR (Abstract/Poster in convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1304)
- Structural, chemical and optical properties of amorphous SiOxNy layers irradiated by CW IR laser (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Diffusion and electrical activation of indium in silicon (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Luminescence properties of SiOxNy irradiated by IR laser 808nm: the role of Si quantum dots and Si chemical environment (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Boron electrical activation in crystalline Si after millisecond nonmelting laser irradiation (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Structural properties of hydrogenated microcrystalline silicon-carbon alloys deposited by Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition: Effect of microcrystalline silicon seed layer and methane flow rate (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Structural properties of relaxed thin film germanium layers grown by low temperature RF-PECVD epitaxy on Si and Ge (100) substrates (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Front-End Models for Silicon Future Technology (Progetti) (Prodotto della ricerca)
- Depth distribution of B implanted in Si after excimer laser irradiation (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Redistribution and electrical activation of ultralow energy implanted boron in silicon following laser annealing (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Octahedral faceted Si nanoparticles as optical traps with enormous yield amplification. (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Crystallization of amorphous Silicon by infrared laser irradiation (Comunicazione a convegno) (Prodotto della ricerca)
- Dopant redistribution and electrical activation in silicon following ultra-low energy boron implantation and excimer laser annealing. (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Defect Generation and Evolution in Laser Processing of Si (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Silicon Nanowires Obtained by Low Temperature Plasma-Based Chemical Vapor Deposition. (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Boron-Interstitial cluster kinetics: extraction of binding energies from dedicated experiments (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Crystallization of Deposited Amorphous Silicon by Infrared Laser Irradiation (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Synthesis of crystalline Si quantum dots by millisecond laser irradiation of SiOxNy layers (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Luminescence properties of SiOxNy irradiated by IR laser 808 nm: The role of Si quantum dots and Si chemical environment (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Issues on boron electrical activation in silicon: Experiments on boron clusters and shallow junctions formation (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Structural properties of pulsed laser deposited SnO(x) thin films (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Competition between uncatalyzed and catalyzed growth during the plasma synthesis of Si nanowires and its role on their optical properties (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Influence of preamorphization on the structural properties of ultrashallow arsenic implants in silicon (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Role of the Si/SiO2 interface during dopant diffusion in thin silicon on insulator layers (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Indium in silicon: a study on diffusion and electrical activation (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- The influence of post-deposition annealing upon amorphous silicon/crystalline silicon heterojunction solar cells (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Ion Implantation at Ultra-Low Energy for Future Semiconductor Devices (Progetti) (Prodotto della ricerca)
- Dopant behaviour and damage annealing in silicon implanted with 1 kev arsenic (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Coautore
- ANTONELLA SCIUTO (Persona)
- SEBANIA LIBERTINO (Persona)
- ENRICO NAPOLITANI (Unità di personale interno)
- SILVIA SCALESE (Unità di personale interno)
- FORTUNATO NERI (Persona)
- SANDRO SOLMI (Persona)
- MARCO SERVIDORI (Persona)
- GIUSEPPE NICOTRA (Unità di personale esterno)
- SILVIA MILITA (Persona)
- PAOLA ALIPPI (Persona)
- MARIA GRAZIA GRIMALDI (Unità di personale esterno)
- GUGLIELMO FORTUNATO (Persona)
- GIORGIA FRANZO' (Persona)
- ROSARIA ANNA PUGLISI (Unità di personale interno)
- ALESSANDRA ALBERTI (Unità di personale interno)
- ANTONINO LA MAGNA (Persona)
- LUIGI MARIUCCI (Unità di personale interno)
- VITTORIO PRIVITERA (Persona)
- GIORGIA FRANZO' (Persona)
- MARKUS ITALIA (Persona)
- CORRADO BONGIORNO (Persona)
- ANTONELLA SCIUTO (Unità di personale esterno)
- SEBASTIANO TRUSSO (Unità di personale interno)
- SALVATORE DI FRANCO (Unità di personale interno)
- MARIA PILAR MIRITELLO (Unità di personale interno)
- MASSIMO CUSCUNA' (Unità di personale interno)
- ROSARIO CORRADO SPINELLA (Persona)
- LUCA MAIOLO (Unità di personale interno)
- Rosa Ruggeri (Persona)
- SALVATORE LOMBARDO (Persona)
- Nome
- GIOVANNI (literal)
- Cognome
- MANNINO (literal)
- Afferisce a
- Ha pubblicazioni con
- VITTORIO PRIVITERA (Persona)
- ANTONINO LA MAGNA (Persona)
- SANDRO SOLMI (Persona)
- ALESSANDRA ALBERTI (Unità di personale interno)
- MARCO SERVIDORI (Persona)
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- SILVIA SCALESE (Unità di personale interno)
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- MASSIMO CUSCUNA' (Unità di personale interno)
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- Coautore
- ANTONINO LA MAGNA (Persona)
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- GIORGIA FRANZO' (Persona)
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- SALVATORE DI FRANCO (Unità di personale interno)
- SEBASTIANO TRUSSO (Unità di personale interno)
- ANTONELLA SCIUTO (Unità di personale esterno)
- LUIGI MARIUCCI (Unità di personale interno)
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- FORTUNATO NERI (Persona)
- http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22728
- http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22802
- MARIA PILAR MIRITELLO (Unità di personale interno)
- LUCA MAIOLO (Unità di personale interno)
- http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22746
- Ha pubblicazioni con
- ANTONINO LA MAGNA (Persona)
- VITTORIO PRIVITERA (Persona)
- MARKUS ITALIA (Persona)
- PAOLA ALIPPI (Persona)
- SILVIA MILITA (Persona)
- SEBANIA LIBERTINO (Persona)
- GUGLIELMO FORTUNATO (Persona)
- SANDRO SOLMI (Persona)
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- ALESSANDRA ALBERTI (Unità di personale interno)
- MASSIMO CUSCUNA' (Unità di personale interno)
- CORRADO BONGIORNO (Persona)
- SILVIA SCALESE (Unità di personale interno)
- Partecipazione di
- Ha afferente
- Autore CNR
- Indium in silicon: a study on diffusion and electrical activation (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Role of the indium-carbon interaction on In diffusion and activation in Si (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Diffusion and electrical activation of indium in silicon (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Effect of oxygen on the diffusion of nitrogen implanted in silicon (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Electrical activation of B and As implants in Silicon On Insulator (SOI) wafers (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Redistribution and electrical activation of ultralow energy implanted boron in silicon following laser annealing (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Shallow BF2 implants in Xe-bombardment-preamorphized Si: The interaction between Xe and F (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Thermal stability of nickel silicide on silicon on insulator (SOI) material (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Defect and dopant kinetics in laser anneals of Si (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Crystallization of implanted amorphous silicon during millisecond annealing by infrared laser irradiation (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Dopant behaviour and damage annealing in silicon implanted with 1 kev arsenic (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Pseudoepitaxial transrotational structures in 14 nm-thick NiSi layers on [001] silicon (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Influence of co-implantation on the activation and diffusion of ultra-shallow extension implantation (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Influence of preamorphization on the structural properties of ultrashallow arsenic implants in silicon (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Role of the Si/SiO2 interface during dopant diffusion in thin silicon on insulator layers (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
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- Crystallization of Deposited Amorphous Silicon by Infrared Laser Irradiation (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Defect Generation and Evolution in Laser Processing of Si (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Front-End Models for Silicon Future Technology (Progetti) (Prodotto della ricerca)
- Ion Implantation at Ultra-Low Energy for Future Semiconductor Devices (Progetti) (Prodotto della ricerca)
- Structural properties of pulsed laser deposited SnO(x) thin films (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Boron-Interstitial cluster kinetics: extraction of binding energies from dedicated experiments (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Boron electrical activation in crystalline Si after millisecond nonmelting laser irradiation (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Dopant redistribution and electrical activation in silicon following ultra-low energy boron implantation and excimer laser annealing. (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Electrical Properties of Ultrathin SiO2 Layer Deposited at 50 degrees C by Inductively Coupled Plasma-Enahnced Chemical Vapor Deposition (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Depth distribution of B implanted in Si after excimer laser irradiation (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Highly Active Junctions Formed in Crystalline Silicon by Infrared Laser Annealing (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Defect generation and evolution in laser processing of Si (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Computational methods for the simulation of the excimer laser annealing in MOS technology (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Thin nickel silicide layer formation on Silicon On Insulator (SOI) materials (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Luminescence properties of SiOxNy irradiated by IR laser 808 nm: The role of Si quantum dots and Si chemical environment (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Issues on boron electrical activation in silicon: Experiments on boron clusters and shallow junctions formation (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Electrical characterisation of a-Si:H(n)/c-Si(p) heterostructures for solar cell applications (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- THERMAL AND NON-THERMAL KINETICS OF DEFECTS AND DOPANT IN SI (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Ultra-shallow junction formation by excimer laser annealing of ultra-low energy B implanted in Si (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Competition between uncatalyzed and catalyzed growth during the plasma synthesis of Si nanowires and its role on their optical properties (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Raman and photoluminescence spectroscopy of Si nanocrystals: Evidence of a form factor (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Giant photoluminescence emission in crystalline faceted Si grains (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Silicon Nanowires Obtained by Low Temperature Plasma-Based Chemical Vapor Deposition. (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- The influence of post-deposition annealing upon amorphous silicon/crystalline silicon heterojunction solar cells (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Structural properties of relaxed thin film germanium layers grown by low temperature RF-PECVD epitaxy on Si and Ge (100) substrates (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Structural properties of hydrogenated microcrystalline silicon-carbon alloys deposited by Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition: Effect of microcrystalline silicon seed layer and methane flow rate (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Octahedral faceted Si nanoparticles as optical traps with enormous yield amplification. (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Molecular Doping applied to Si Nanowires array based Solar Cells (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
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- Tailored Voltage deposition of µc-Si1-xCx:H from H2 diluted SiH4 and CH4 gas mixtures (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
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- Rapporto con persona
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