http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA29220
GRAZIA CICALA
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- Tribological testing of self-mated nanocrystalline diamond coatings on Si3N4 ceramics (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Plasma deposition of hydrogenated diamond like carbon films from CH4-Ar mixtures (Abstract/Poster in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1302)
- Plasma deposition of fluorinated micro-/nano-structured coatings (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- MASS-SPECTROMETRIC THERMAL EVOLUTION OF NOVEL INDIUM METALORGANIC PRECURSORS FOR MOCVD (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Characterization of polycrystalline diamond films grown by Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (MWPECVD) for UV radiation detection (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- PECVD a-C:H films for STW resonant devices (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Study of shock waves interacting with Ar and N2 low pressure dc discharges (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Deliverable: D.2.6.1 - Studio, progettazione di un catodo neutralizzatore basato sulla tecnologia a film di diamante (a livello di prototipo di laboratorio) I parte 30 Giugno 2013 (Rapporti progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)
- Laser deflection diagnostics of shock wave interacting with Ar and N2 DC discharges (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Polycrystalline diamond films grown by MWPECVD technique and application in photocathodes (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Nanocrystalline diamond films produced by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Study of positive column of glow discharge in nitrogen by optical emission spectroscopy and numerical simulation (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Towards smooth MWPECVD diamond films: exploring the limits of the hydrogen percentage in Ar/H2/CH4 gas mixture (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Deliverable: D.2.6.1 - Studio, progettazione di un catodo neutralizzatore basato sulla tecnologia a film di diamante (a livello di prototipo di laboratorio) II parte 30 Novembre 2013 (Rapporti progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)
- Towards smooth MWPECVD diamond films: exploring the limits of the hydrogen percentage in Ar/H2/CH4 gas mixture (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Morphological and structural study of plasma deposited fluorocarbon films at different thicknesses (Abstract/Poster in convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1304)
- Deposition of thick and thin nanocrystalline diamond films by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Role of hydrogen addition to SiF4-H2-He plasma to control the amorphous/microcrystalline phase in Si:H films (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Plasma treatments of Polyethylene in modulated NH3 r.f. discharges. (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Amorphous to nanocrystalline transition in the plasma deposition of silicon films from SiF4-H2-He (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Plasma deposition and treatment of semiconductor materials (Contributo in volume (capitolo o saggio)) (Prodotto della ricerca)
- Plasma deposition of hydrogenated diamond like carbon films from CH4-Ar mixtures (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Effect of bias voltage on the growth and properties of PECVD hydrogenated e amorphous carbon films (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Effect of bias voltage on the growth and properties of PECVD hydrogenated amorphous carbon films? (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Plasma deposition of fluorinated micro- /nano- structured coatings (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Laser Induced Synthesis of InN in NH3 atmosphere: Diagnostics of intermediate and InN thin film deposition (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Selective grafting of amine groups on polyethylene by modulated NH3 plasmas (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Mass spectrometric thermal evolution of novel indium metalorganic precursors for MOCVD (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- IN-SITU MASS-SPECTROMETRIC DIAGNOSTICS DURING INP DEPOSITION IN A REMOTE PLASMA-ENHANCED MOCVD SYSTEM (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Amorphous to nanocrystalline transition in hydrofluorinated silicon films from helium diluted SiF4-H2 plasmas (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Plasma Deposition of Hydrofluorinated Amorphous Silicon-Carbon Alloys (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Deposition of Photoluminescent Nanocrystalline Silicon Films by SiF4-SiH4-H2 Plasmas (Abstract/Poster in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Plasma treatments of Polyethylene by means of modulated RF NH3 Glow Discharges (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Performance analysis of poly- and nano-crystalline diamond based photocathodes (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Sotto-attività A1.4.5 (RI) Catodi neutralizzatori a base di film di diamante per propulsione elettrica (CNR-IMIP) SAL1 dal 01.07.2013 al 31.12.2013 Progetto Apulia Space PON03PE_00067 (Rapporti progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)
- Comparative photoemission study between nanocrystalline diamond films and nanodiamond layers (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Thermionic emission from CVD poly-and nanocrystalline diamond films grown on different substrates (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Sotto-attività A1.4.5 (RI) Catodi neutralizzatori a base di film di diamante per propulsione elettrica (CNR-IMIP) SAL2 dal 01.01.2014 al 30.06.2014 e SAL3 dal 1.07.2014 al 31.12.2014 Progetto Apulia Space PON03PE_00067 (Rapporti progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)
- Self-assembly of pillar structures in nanodiamond layers (Comunicazione a convegno) (Prodotto della ricerca)
- Gas phase and surface processes in silicon tetrachloride glow discharge (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Continuous and modulated deposition of fluorocarbon films by means of C-C4F8 plasmas (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Nuovi approcci alla deposizione plasmochimica di silicio amorfo e sue leghe, effetto di parametri non usuali (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Plasmachemical reduction of silicon halocompounds for amorphous silicon films (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Plasma deposition of a-Si,Ge:H,F from a novel SiF4-GeH4-H2 mixture (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- STUDY OF THE NF3 PLASMA CLEANING OF REACTORS FOR AMORPHOUS-SILICON DEPOSITION (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Method of Determination of Overall Reaction Rates by Mass Spectrometry of Stable Molecules during Plasma Processing of Layers (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Plasma deposition and characterization of photoluminescent fluorinated nanocrystalline silicon films (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Plasma deposition chemistry of amorphous silicon-carbon alloys from fluorinated gas (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Stereo- and Regioselectivities in the Epoxidation of Some Allylic Alcohols by the Dioxirane Intermediate Generated in the Reaction of Potassium Caroate with Acetone (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Smoothness improvement of micrometer and submicrometer-thick nanocrystalline diamond films produced by MWPECVD (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- A comparative study on comb electrodes devices made of MWPECVD diamond films grown on p-doped and intrinsic silicon substrate (Abstract/Poster in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Mechanical Properties of MWPECVD Diamond Coatings on Si Substrate via Nanoindentation (Abstract/Poster in convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1304)
- Mechanical properties of PECVD hydrogenated amorphous carbon coatings via nanoindentation and nanoscratching techniques (Comunicazione a convegno) (Prodotto della ricerca)
- ?Effect of bias voltage on the growth and properties of PECVD hydrogenatede amorphous carbon films (Abstract/Poster in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1302)
- RF plasma deposition of amorphous silicon-germanium alloys: Evidence for a chemisorption-based growth process (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Micro-LIBS spectroscopic applied on copper age weapons from souther tuscany cave (Abstract/Poster in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1302)
- EFFECT OF MODULATION ON THE PLASMA DEPOSITION OF HYDROGENATED AND FLUORINATED SILICON-NITRIDE (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Mechanism of silicon film deposition in the RF plasma reduction of silicon tetrachloride (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Plasma-surface interactions in the plasma deposition mechanism of structured Teflon-like coatings (Comunicazione a convegno) (Prodotto della ricerca)
- PECVD of hydrogenated diamond like carbon films from CH4-Ar mixtures: growth chemistry and material characteristics (Abstract/Poster in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- ?High resolution humidity sensor based on polymer-coated STW resonant device (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Plasma-Surface Interactions in the plasma deposition mechanism of structured teflon-like coatings (Abstract/Poster in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Laser Deflection Diagnostics Of Shock Wave Interacting With Ar And N2 DC Discharge (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Rivelatori a film di diamante per fotoni UV e X per applicazioni astrofisiche. (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Nanostructured teflon like films produced by modulated tetrafluoroethylene plasmas and superhydrophobicity (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Deposition of fluorocarbon films in modulated glow discharges (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Mechanism of Shock Wave Interaction Propagating in N2 DC Discharge (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Study of N2 Dc discharge at low pressure by optical emission spectroscopy and numerical simulation (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Optical emission spectroscopy study of N2 dc discharges at low pressure (Abstract/Poster in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1302)
- Diagnostics and modelling of radiofrequency and microwave plasmas of CH4-Ar mixtures for deposition of carbon-based films. (Rapporti finali progetti di ricerca) (Prodotto della ricerca)
- Thermally-stimulated emission of MWPECVD nanocrystalline diamond films (Abstract/Poster in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Progress in the production of CsI and diamond thin film photocathodes (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Deposition of nanocrystalline diamond films on silicon nitride ceramic substrates using pulsed microwave discharges in Ar/H2/CH4 gas mixture (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Nucleation, growth and characterization of nanocrystalline diamond films (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Optical Emission Spectroscopy and Laser Interferometry in the Study of Silicon Film deposition from SiCl4 Glow Discharges (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Chemical Model of Plasma Deposition of Amorphous Silicon Films from SiCl4-H2 Mixtures (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Final Report Commission of the European Communities JOULE contract JOUR-0081-C \"Plasma deposition systems for photovoltaic quality amorphous silicon and alloys: Plasma diagnostics & material characterization\" (Rapporti finali progetti di ricerca) (Prodotto della ricerca)
- Final Report, Commission of the European Communities, Photovoltaic Power Generation, European R & D contract EN3S-0066-I \"Kinetic study of the deposition process of glow discharge hydrogenated Si for high efficiency solar cells\" (Rapporti finali progetti di ricerca) (Prodotto della ricerca)
- Report Progetto Finalizzato MSTA II Sottoprogetto 5-Tematica \"Materiali nanostrutturati a base di silicio per dispositivi emettitori di luce a film sottile (Rapporti finali progetti di ricerca) (Prodotto della ricerca)
- Silicon deposition on stainless steel surfaces in view of the conditioning of FTU vacuum chamber (Altre pubblicazioni) (Prodotto della ricerca)
- Tecnologia plasmochimica per la deposizione di film sottili di materiali inorganici: Leghe di silicio amorfo per applicazioni fotovoltaiche (Altro prodotto) (Prodotto della ricerca)
- Plasma Modulation: a chance to improve the amorphous silicon deposition process (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Crescita epitassiale di fosfuro di indio in un reattore MOCVD assistito da plasma (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Deposition of Si-Ge alloys under plasma modulation conditions (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Effect of Plasma Modulation in the Glow Discharge Deposition of Amorphous Silicon Films (Abstract/Poster in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Deposition of Amorphous Silicon films from SiH4-H2 plasmas: Gas Phase Diagnostics (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Continuous and modulated deposition of fluorocarbon films from c-C4F8 plasmas (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Plasma deposition of Amorphous Silicon Alloys: a-Si,Ge:H,F, Thin Films from SiF4-GeH4-H2 Mixtures (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Glow Discharge Deposition of a-Si:H from SiH4-H2 Mixtures: Langmuir Probes and Optical Emission Spectroscopy for Plasma Diagnostics (Comunicazione a convegno) (Prodotto della ricerca)
- Plasma Deposition of a-Si,Ge:H,F Thin Films from SiF4-GeH4-H2 Mixtures (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Mechanical Properties of MWPECVD Diamond Coatings on Si Substrate via Nanoindentation (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- A comparative study on comb electrodes devices made of MWPECVD diamond films grown on p-doped and intrinsic silicon substrate (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- From amorphous to microcrystalline silicon deposition in SiF4-H2-He plasmas in situ control by optical emission spectroscopy (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Plasma deposition of microcrystalline silicon: role of plasma-surface interaction on the microstructure (Monografia o trattato scientifico) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1401)
- Effect of Properties of MWPECVD Polycrystalline Diamond Films on Photoemissive Response (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- II Relazione Scientifica \"Deposizione di Film Sottili di Diamante Poli- e Nano-Cristallino da plasmi Continui e pulsati\" dell' UR IMIP per il Progetto Strategico (PS_136) (Rapporti progetti di ricerca) (Prodotto della ricerca)
- III Relazione Scientifica \"Deposizione di Film Sottili di Diamante Poli- e Nano-Cristallino da plasmi Continui e pulsati\" dell' UR IMIP per il Progetto Strategico (PS_136) (Rapporti progetti di ricerca) (Prodotto della ricerca)
- I Relazione Scientifica \"Deposizione di Film Sottili di Diamante Poli- e Nano-Cristallino da plasmi Continui e pulsati\" dell' UR IMIP per il Progetto Strategico (PS_136) (Rapporti progetti di ricerca) (Prodotto della ricerca)
- Quantitative analysis of diamond deposition reactor efficiency (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Thermoluminescent response of thin(2 [micro sign]m) polycrystalline diamond films grown by pulsed and continuos microwave plasmas (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Study of SiF4-N2-H2 plasmas for the deposition of fluorinated silicon nitride films (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Novel approaches to plasma deposition of amorphous silicon-based materials (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Plasma Deposition of Amorphous Silicon Based Materials. The role of the Chemisorption (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Effect of the Substrate Temperature on the Deposition of Silicon Films in a Reactive Plasma System (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Deposition of super-hydrophobic fluorocarbon coatings in modulated RF glow discharges (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Nucleation, growth and characterization of nanocrystalline diamond films (Abstract/Poster in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1302)
- Deposition of nanocrystalline diamond films on silicon nitride ceramic substrates using pulsed microwave discharges in Ar/H2/CH4 gas mixture\" (Abstract/Poster in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1302)
- Riboon-like structures in films deposited by means of modulated C2F4 plasmas: gas and surface diagnostics (Abstract/Poster in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Performance Analysis of Poly- and Nano-Crystalline Diamond based Photocathodes (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Photo- and thermionic emission of MWPECVD nanocrystalline diamond films (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Morphological and structural study of plasma deposited fluorocarbon films at different thicknesses (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Effect of deposition temperature on mechanical properties of MWPECVD nanocrystalline diamond coatings (Abstract/Poster in convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1304)
- Plasma modulation - a powerful method to produce and/or treat materials (Altre pubblicazioni) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1717)
- From poly- to nano-crystalline diamond deposition by MWPECVD technique (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Deposition of photoluminescent nanocrystalline silicon films by SiF4-SiH4-H2 plasmas (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Nanostructure and Composition Control of Fluorocarbon Films from Modulated Tetrafluoroethylene Plasmas. (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Plasma deposition of microcrystalline silicon: role of plasma-surface interaction on the microstructure. (Contributo in volume (capitolo o saggio)) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1201)
- PECVD of hydrogenated diamond like carbon films from CH4-Ar mixtures: growth chemistry and material characteristics. (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Mechanical properties of PECVD hydrogenated amorphous carbon coatings via nanoindentation and nanoscratching techniques. (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- High relative humidity range sensor based on polymer-coated STW resonant device (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Deposition of thick and thin nanocrystalline diamond films by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition. (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Preliminary study on polycrystalline diamond films suitable for radiation detection (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Deposition of carbon based-materials by continuous and pulsed discharges (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Deposition mechanism of nanostructured thin films from tetrafluoroethylene glow discharges (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Study of polycrystalline diamond deposition by continuous and pulsed discharges (Abstract/Poster in convegno) (Prodotto della ricerca)
- Growth Chemistry of SiC Alloys from SiF4-CH4 Plasmas (Abstract/Poster in convegno) (Prodotto della ricerca)
- Sensore per radiazione ultravioletta a base di film di diamante policristallino (Comunicazione a convegno) (Prodotto della ricerca)
- From amorphous to microcrystalline silicon deposition in SiF4-H2-He plasmas in situ control by optical emission spectroscopy (Abstract/Poster in convegno) (Prodotto della ricerca)
- Optical, electrical and structural properties of a-SiC:H films deposited by SiH4-C2H2 Gas mixtures (Comunicazione a convegno) (Prodotto della ricerca)
- Mass spectrometric determination of reaction rates during plasma processing of layers (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- STUDY OF SIF4-N2-H2 PLASMAS FOR THE DEPOSITION OF FLUORINATED SILICONNITRIDE FILMS (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Growth/etching mechanism governing the composition and structure of plasma deposited silicon-based alloys (Comunicazione a convegno) (Prodotto della ricerca)
- Enhancement of the amorphous to microcrystalline phase transition in silicon films deposited by SiF4-H2-He plasmas (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Plasma enhanced chemical vapor deposition of nanocrystalline silicon films (Abstract/Poster in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Pressure and rf power effects on optical and electrical properties of a-SiC:H films grown in SiH4-C2H2 gas mixtures\". (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Controllo della struttura amorfa/microcristallina in film di silicio depositati via plasma: ruolo della diluizione in idrogeno (Comunicazione a convegno) (Prodotto della ricerca)
- Microcrystalline Silicon, Deposited from SiF4 plasmas: Film anatomy from electrical and optical properties. (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Plasma enhanced chemical vapor deposition of nanocrystalline silicon films from SiF4-H2-He at low temperature (Abstract/Poster in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Deposition-etching competitive mechanism governing the structure and chemical composition of plasma deposited silicon-based materials. (Abstract/Poster in convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1304)
- Chemisorption processes in glow discharges silicon deposition: experimental evidence on the identity of the growth precursors (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Experimental investigation of powder formation in SiF4-H2- and SiH4-H2 R.F. Discharges (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Growth - etching competitive mechanism governing the structure and chemical composition of plasma-deposited silicon-based materials (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Plasma deposition and treatment of semiconductor materials (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- On the use of NF3 plasmas for amorphous silicon ablation (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Study of microscopic parameters in plasma systems for amorphous silicon deposition (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Plasma Deposition of Amrphous Silicon alloys: Low (Si-Ge) and High (Si-C) Energy Band Gap (Abstract/Poster in convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1304)
- Deposition of nanocrystalline silicon films from SiF4-H2-He plasmas. (Abstract/Poster in convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1304)
- Deliverable: D.2.7.1 - Prova di un catodo neutralizzatore basato sulla tecnologia a film di diamante (a livello di prototipo di laboratorio) 31 Dicembre 2013 (Rapporti progetti di ricerca) (Prodotto della ricerca)
- Shock wave propagation in stable, uniform and low pressure DC discharge of Ar (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- A New Methodology to Improve the Quality of NCD Films Produced by MWPECVD: Role of Buffer Layer (Abstract/Poster in convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1304)
- Deposition of synthetic diamond from CH4-H2 microwave plasmas (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Effect of plasma modulation in the glow discharge deposition of amorphous silicon films (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Optical absorption and electrical conductivity of microcrystalline silicon layers grown by SiF4-H2 plasma on glass substrates (Abstract/Poster in convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1304)
- Plasma enhanced chemical vapour deposition of µc-Si thin films: structure analysis (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Deposition of nanocrystalline silicon films from SiF4-H2-He plasmas (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Sensore per radiazione ultravioletta a base di film di diamante policristallino (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Plasma enhanced chemical vapor deposition of nanocrystalline silicon films from SiF4-H2-He at low temperature (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Anatomy of mc-Si thin films by plasma enhanced chemical vapor deposition: An investigation by spectroscopic ellipsometry (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Structure of Ar and N2 DC Discharges (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Deposition mechanism in (GD)µc-Si:H,Cl film preparation:kinetic evidences (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Plasma treatments of polyethylene in modulated NH3 discharges (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Glow discharge deposition of a-Si:H from SiH4-H2 mixtures: Langmuir probe and optical emission spectroscopy for plasma diagnostics (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- A new plasma chemical system for the deposition of amorphous silicon-germanium alloys (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Quantitative explanation of gas pressure differences due to etching of a-Si:H layers in NF3 plasma (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Experimental investigation of powder formation in SiF4-H2 and SiH4-H2 Discharges (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Discharge modulation to improve the plasma deposition of hydrogenated and fluorinated silicon films (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- The Role of Gas Phase and Surface Processes in the Deposition of GD-Si:H,Cl Films (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
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- Stereo- and Regioselectivities in the Epoxidation of Some Allylic Alcohols by the Dioxirane Intermediate Generated in the Reaction of Potassium Caroate with Acetone (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Mechanism of silicon film deposition in the RF plasma reduction of silicon tetrachloride (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- RF plasma deposition of amorphous silicon-germanium alloys: Evidence for a chemisorption-based growth process (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- EFFECT OF MODULATION ON THE PLASMA DEPOSITION OF HYDROGENATED AND FLUORINATED SILICON-NITRIDE (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- STUDY OF THE NF3 PLASMA CLEANING OF REACTORS FOR AMORPHOUS-SILICON DEPOSITION (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Plasma deposition and characterization of photoluminescent fluorinated nanocrystalline silicon films (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Method of Determination of Overall Reaction Rates by Mass Spectrometry of Stable Molecules during Plasma Processing of Layers (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Plasma deposition chemistry of amorphous silicon-carbon alloys from fluorinated gas (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Gas phase and surface processes in silicon tetrachloride glow discharge (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Plasmachemical reduction of silicon halocompounds for amorphous silicon films (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Plasma deposition of a-Si,Ge:H,F from a novel SiF4-GeH4-H2 mixture (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Nuovi approcci alla deposizione plasmochimica di silicio amorfo e sue leghe, effetto di parametri non usuali (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Plasma Deposition of Hydrofluorinated Amorphous Silicon-Carbon Alloys (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Amorphous to nanocrystalline transition in hydrofluorinated silicon films from helium diluted SiF4-H2 plasmas (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Amorphous to nanocrystalline transition in the plasma deposition of silicon films from SiF4-H2-He (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Plasma deposition and treatment of semiconductor materials (Contributo in volume (capitolo o saggio)) (Prodotto della ricerca)
- Role of hydrogen addition to SiF4-H2-He plasma to control the amorphous/microcrystalline phase in Si:H films (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Plasma treatments of Polyethylene in modulated NH3 r.f. discharges. (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Effect of bias voltage on the growth and properties of PECVD hydrogenated e amorphous carbon films (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Plasma treatments of Polyethylene by means of modulated RF NH3 Glow Discharges (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Deposition of Photoluminescent Nanocrystalline Silicon Films by SiF4-SiH4-H2 Plasmas (Abstract/Poster in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Plasma deposition of amorphous silicon alloys from fluorinated gases (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Study of NF3 Plasmas for the Ablation of Amorphous Silicon from internal PECVD Reactor walls (Abstract/Poster in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1302)
- Plasma Deposition of Fluorinated Silicon Nitride films (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Plasma deposition of amorphous silicon based materials. Current status and new perspective (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- La tecnologia al plasma nella produzione di materiali innovativi (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Plasma Deposition of Amorphous Silicon Based Materials. Processes and Material properties (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Evidence for a chemisorption based growth model in the R.F. plasma deposition of amorphous silicon alloys (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) of Amorphous Silicon-Germanium Alloys from SiF4-GeH4-H2 Mixtures (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- The Role of Gas Phase and Surface Processes in the Deposition of GD-Si:H,Cl Films (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Relazione finale del Progetto strategico (PS_136) Regione Puglia \"Sviluppo di un rivelatore a film di diamante per radiazione ultravioletta\" (Rapporti finali progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1718)
- Final Report Commission of the European Communities JOULE contract JOR3-CT97-0145 \"New and enhanced silicon thin-film solar cells-NEST\" (Rapporti finali progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1718)
- Report Centro Laser \"Experimental Investigation of powder formation in SiF4-H2 and SiH4-H2 R.F. Discharges\" (Rapporti progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)
- Final Report Commission of the European Communities JOULE contract JOU2-CT92-0027 \"New and more stable a-Si:H based materials for photovoltaics\" (Rapporti finali progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1718)
- Rapporto Finale Progetto Finalizzato Energetica II, \"Deposizione via plasma di silicio intrinseco e drogato da plasmi reattivi\" in Atti del seminario generale delle unità operative del PFE (Rapporti finali progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1718)
- Relazione sull'attività svolta a conclusione della borsa di studio AIRI \"Approccio all'analisi di spettroscopia di emissione ottica OES da un plasma rf\" (Rapporti tecnici, manuali, carte geologiche e tematiche e prodotti multimediali) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1715)
- Diagnostics and modelling of radiofrequency and microwave plasmas of CH4-Ar mixtures for deposition of carbon-based films. (Rapporti finali progetti di ricerca) (Prodotto della ricerca)
- Selective grafting of amine groups on polyethylene by modulated NH3 plasmas (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Laser Induced Synthesis of InN in NH3 atmosphere: Diagnostics of intermediate and InN thin film deposition (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Mass spectrometric thermal evolution of novel indium metalorganic precursors for MOCVD (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- IN-SITU MASS-SPECTROMETRIC DIAGNOSTICS DURING INP DEPOSITION IN A REMOTE PLASMA-ENHANCED MOCVD SYSTEM (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Deposition of thick and thin nanocrystalline diamond films by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition. (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Structure and chemical composition of glow discharge Si:H,Cl films. The role of gas phase argon addition. (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- The influence of argon addition on the deposition and properties of Si:H, Cl films prepared in a glow discharge (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Deposition of silicon films from SiCl4 glow discharges: A kinetic model of the surface process (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Plasma deposition of a-Si,Ge:H,F thin films from SiF4-GeH4 -H2 mixtures (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Rf glow discharge of SiF4-H2 mixtures: Diagnostics and modeling of the a-Si plasma deposition process (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Deposition of silicon-germanium alloys under plasma modulation conditions (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Novel approaches to plasma deposition of amorphous silicon-based materials (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Time-resolved optical emission spectroscopy of modulated plasmas for amorphous silicon deposition (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Photoelectron spectroscopy study of amorphous silicon-carbon alloys deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Plasma deposition of amorphous silicon alloys from fluorinated gases (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Modulated rf discharges as an effective tool for selecting excited species (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Experimental investigation of powder formation in SiF4-H2 and SiH4-H2 r.f. discharges (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Effect of He-dilution on hydrofluorinated silicon films from SiF4-H2 plasmas (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Plasma enhanced chemical vapor deposition of nanocrystalline silicon films from SiF4-H2-He at low temperature (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Anatomy of mc-Si thin films by plasma enhanced chemical vapor deposition: An investigation by spectroscopic ellipsometry (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Plasma treatments of polyethylene in modulated NH3 discharges (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Deposition mechanism in (GD)µc-Si:H,Cl film preparation:kinetic evidences (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Glow discharge deposition of a-Si:H from SiH4-H2 mixtures: Langmuir probe and optical emission spectroscopy for plasma diagnostics (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- A new plasma chemical system for the deposition of amorphous silicon-germanium alloys (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Discharge modulation to improve the plasma deposition of hydrogenated and fluorinated silicon films (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Effect of unusual experimental parameters in R.F. plasma deposition of amorphous silicon based materials (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Quantitative explanation of gas pressure differences due to etching of a-Si:H layers in NF3 plasma (Contributo in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Mass spectrometric determination of reaction rates during plasma processing of layers (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Pressure and rf power effects on optical and electrical properties of a-SiC:H films grown in SiH4-C2H2 gas mixtures\". (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Microcrystalline Silicon, Deposited from SiF4 plasmas: Film anatomy from electrical and optical properties. (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- Preliminary study on polycrystalline diamond films suitable for radiation detection (Contributo in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1301)
- A New Methodology to Improve the Quality of NCD Films Produced by MWPECVD: Role of Buffer Layer (Abstract/Poster in convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1304)
- Deposition of synthetic diamond from CH4-H2 microwave plasmas (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Deposition of nanocrystalline silicon films from SiF4-H2-He plasmas (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Optical absorption and electrical conductivity of microcrystalline silicon layers grown by SiF4-H2 plasma on glass substrates (Abstract/Poster in convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1304)
- Plasma enhanced chemical vapour deposition of µc-Si thin films: structure analysis (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Deposition-etching competitive mechanism governing the structure and chemical composition of plasma deposited silicon-based materials. (Abstract/Poster in convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1304)
- Experimental investigation of powder formation in SiF4-H2- and SiH4-H2 R.F. Discharges (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Plasma deposition and treatment of semiconductor materials (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Deposition of nanocrystalline silicon films from SiF4-H2-He plasmas. (Abstract/Poster in convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1304)
- Plasma Deposition of Amrphous Silicon alloys: Low (Si-Ge) and High (Si-C) Energy Band Gap (Abstract/Poster in convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1304)
- Study of SiF4-N2-H2 plasmas for the deposition of fluorinated silicon nitride films (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Novel approaches to plasma deposition of amorphous silicon-based materials (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Plasma Deposition of Amorphous Silicon Based Materials. The role of the Chemisorption (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- Effect of the Substrate Temperature on the Deposition of Silicon Films in a Reactive Plasma System (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1305)
- III Relazione Scientifica \"Deposizione di Film Sottili di Diamante Poli- e Nano-Cristallino da plasmi Continui e pulsati\" dell' UR IMIP per il Progetto Strategico (PS_136) (Rapporti progetti di ricerca) (Prodotto della ricerca)
- II Relazione Scientifica \"Deposizione di Film Sottili di Diamante Poli- e Nano-Cristallino da plasmi Continui e pulsati\" dell' UR IMIP per il Progetto Strategico (PS_136) (Rapporti progetti di ricerca) (Prodotto della ricerca)
- I Relazione Scientifica \"Deposizione di Film Sottili di Diamante Poli- e Nano-Cristallino da plasmi Continui e pulsati\" dell' UR IMIP per il Progetto Strategico (PS_136) (Rapporti progetti di ricerca) (Prodotto della ricerca)
- STUDY OF SIF4-N2-H2 PLASMAS FOR THE DEPOSITION OF FLUORINATED SILICONNITRIDE FILMS (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Enhancement of the amorphous to microcrystalline phase transition in silicon films deposited by SiF4-H2-He plasmas (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Thermally-stimulated emission of MWPECVD nanocrystalline diamond films (Abstract/Poster in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Self-Assembled pillar-like structures in nanodiamond layers by pulsed spray technique (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Sotto-attività A1.4.5 (RI) Catodi neutralizzatori a base di film di diamante per propulsione elettrica (CNR-IMIP) SAL1 dal 01.07.2013 al 31.12.2013 Progetto Apulia Space PON03PE_00067 (Rapporti progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)
- Sotto-attività A1.4.5 (RI) Catodi neutralizzatori a base di film di diamante per propulsione elettrica (CNR-IMIP) SAL2 dal 01.01.2014 al 30.06.2014 e SAL3 dal 1.07.2014 al 31.12.2014 Progetto Apulia Space PON03PE_00067 (Rapporti progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)
- Photo- and thermionic emission of MWPECVD nanocrystalline diamond films (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Superior hardness and Young's modulus of low temperature nanocrystalline diamond coatings (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Self-Assembled structures in Nanodiamond Layer by Spray technique (Abstract/Poster in convegno) (Prodotto della ricerca)
- MWPECVD tailored diamond coatings supporting biomedical prostheses. (Comunicazione a convegno) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1303)
- Deliverable: D.2.7.1 - Prova di un catodo neutralizzatore basato sulla tecnologia a film di diamante (a livello di prototipo di laboratorio) 31 Dicembre 2013 (Rapporti progetti di ricerca) (Prodotto della ricerca)
- Comparative photoemission study between nanocrystalline diamond films and nanodiamond layers (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Thermionic emission from CVD poly-and nanocrystalline diamond films grown on different substrates (Abstract/Comunicazione in atti di convegno) (Prodotto della ricerca)
- Self-assembly of pillar structures in nanodiamond layers (Comunicazione a convegno) (Prodotto della ricerca)
- Deliverable: D.2.6.1 - Studio, progettazione di un catodo neutralizzatore basato sulla tecnologia a film di diamante (a livello di prototipo di laboratorio) I parte 30 Giugno 2013 (Rapporti progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)
- Deliverable: D.2.6.1 - Studio, progettazione di un catodo neutralizzatore basato sulla tecnologia a film di diamante (a livello di prototipo di laboratorio) II parte 30 Novembre 2013 (Rapporti progetti di ricerca) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1714)
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