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					<div class="scheda"><h1>GIOVANNA SCAREL</h1>
<dl><dt>Type</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/persone.owl#Persona' class = 'external' >Persona</a> (Classe)</li></ul></dd><dt>Label</dt><dd><ul><li>GIOVANNA SCAREL (literal)</li><li>GIOVANNA SCAREL (literal)</li></ul></dd><dt>Partecipa a commessa</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/personale-partecipazioneacommessa/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27669-COMMESSA5201-ANNO2007'>Partecipazione a Commessa "Materiali, processi, e tecniche analitiche per la realizzazione di dispositivi innovativi con funzionalità logiche o di memoria non volatile integrabili su Silicio" (MD.P05.007) di DOTT.SSA GIOVANNA SCAREL nell'anno 2007</a> (Partecipazione a commessa)</li></ul></dd><dt>Persona in rapporto</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/rapportoConCNR/MATRICOLA27669'>Rapporto con CNR di DOTT.SSA GIOVANNA SCAREL</a> (Rapporto con CNR)</li></ul></dd><dt>Autore CNR di</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID137'>X-ray absorption spectroscopy study of Yb2O3 and Lu2O3 thin films deposited on Si(100) by atomic layer deposition (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID132'>Ozone-based atomic layer deposition of alumina from TMA: Growth, morphology, and reaction mechanism (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID124'>Atomic layer deposition of Lu silicate films using [(Me3Si)(2)N](3)Lu (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2769'>Infrared spectroscopy and X-ray diffraction studies on the crystallographic evolution of La2O3 films upon annealing (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2768'>Thin MnO and NiO films grown using atomic layer deposition from ethylcyclopentadienyl type of precursors (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID123'>Nondestructive diagnostics of high-kappa dielectrics for advanced electronic devices (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1955'>Degradation kinetics of ultrathin HfO2 layers on Si(100) during vacuum annealing monitored with in situ XPS/LEIS and ex situ AFM (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1956'>Fabrication of GeO2 layers using a divalent Ge precursor (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2770'>Energy band alignment at TiO2/Si interface with various interlayers (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2766'>Spectroscopic ellipsometry study of thin NiO films grown on Si (100) by atomic layer deposition (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2767'>Effect of rapid thermal annealing on optical and interfacial properties of atomic-layer-deposited Lu2O3 films on Si (100) (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1931'>Vibrational and electrical properties of hexagonal La2O3 films (vol 91, art no. 102901, 2007) (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID222490'>X-ray absorption spectroscopy study of Yb2O3and Lu2O3 thin films deposited on Si(100) by atomic layer deposition (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID136'>X-ray photoelectron spectroscopy study of energy-band alignments of Lu2O3 on Ge (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID132179'>Rare earth oxifr thin films  - Growth, characterization, and applications (Monografia o trattato scientifico)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1401)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1445'>A study of the growth of Lu2O3 on Si(001) by synchrotron radiation photoemission and transmission electron microscopy (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1948'>Effects of the oxygen precursor on the interface between (100) Si and HfO2 films grown by atomic layer deposition (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1946'>Vibrational and electrical properties of hexagonal La2O3 films (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1941'>Effects of thermal treatments on chemical composition and electrical properties of ultra-thin Lu oxide layers on Si (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID185476'>Energy-band diagram of metal/Lu2O3/silicon structures (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1953'>Atomic layer deposition of magnetic thin films (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1947'>[(Me3Si)(2)N](3)Lu: Molecular structure and use as Lu and Si source for atomic layer deposition of Lu silicate films (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1938'>Innovative dielectrics for semiconductor technology (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2738'>Atomic layer deposition of NiO films on Si(100) using cyclopentadienyl-type compounds and ozone as precursors (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li></ul></dd><dt>Coautore</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9368'>STERGIOS VOLKOS</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9270'>SILVIA BALDOVINO</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27492'>MADDALENA PEDIO</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID19477'>MARCO FANCIULLI</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA14255'>GABRIELE SEGUINI</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9345'>SILVIA CHIARA CAPELLI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID8339'>FEDERICO BOSCHERINI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID8388'>CLAUDIA DALLERA</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a 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href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27655'>CLAUDIA WIEMER</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID8502'>STEFANO NANNARONE</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID8388'>CLAUDIA DALLERA</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27510'>MARCO FANCIULLI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9345'>SILVIA CHIARA CAPELLI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9361'>LUCA LAMAGNA</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9368'>STERGIOS VOLKOS</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9270'>SILVIA BALDOVINO</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9263'>DIMITRA TSOUTSOU</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9268'>MICHELE PEREGO</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9266'>ROBERTO MANTOVAN</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27813'>ALBERTO DEBERNARDI</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9370'>MARCO FANCIULLI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9342'>HONG LIANG LU</a> (Persona)</li></ul></dd>

</dl>

<br/><h4>Incoming links:</h4><br/><dl><dt>Coautore</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27784'>SABINA SPIGA</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27787'>EMILIANO BONERA</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27655'>CLAUDIA WIEMER</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27510'>MARCO FANCIULLI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID8502'>STEFANO NANNARONE</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA10512'>MICHELE PEREGO</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27460'>GRAZIELLA 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personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27492'>MADDALENA PEDIO</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9370'>MARCO FANCIULLI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9361'>LUCA LAMAGNA</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9345'>SILVIA CHIARA CAPELLI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID8388'>CLAUDIA DALLERA</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9268'>MICHELE PEREGO</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9266'>ROBERTO MANTOVAN</a> (Persona)</li><li><a 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href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/personale-partecipazioneacommessa/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27669-COMMESSA5201-ANNO2007'>Partecipazione a Commessa "Materiali, processi, e tecniche analitiche per la realizzazione di dispositivi innovativi con funzionalità logiche o di memoria non volatile integrabili su Silicio" (MD.P05.007) di DOTT.SSA GIOVANNA SCAREL nell'anno 2007</a> (Partecipazione a commessa)</li></ul></dd><dt>Autore CNR</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID124'>Atomic layer deposition of Lu silicate films using [(Me3Si)(2)N](3)Lu (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID132'>Ozone-based atomic layer deposition of alumina from TMA: Growth, morphology, and reaction mechanism (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID137'>X-ray absorption spectroscopy study of Yb2O3 and Lu2O3 thin films deposited on Si(100) by atomic layer deposition (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1941'>Effects of thermal treatments on chemical composition and electrical properties of ultra-thin Lu oxide layers on Si (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1946'>Vibrational and electrical properties of hexagonal La2O3 films (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1948'>Effects of the oxygen precursor on the interface between (100) Si and HfO2 films grown by atomic layer deposition (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2738'>Atomic layer deposition of NiO films on Si(100) using cyclopentadienyl-type compounds and ozone as precursors (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2768'>Thin MnO and NiO films grown using atomic layer deposition from ethylcyclopentadienyl type of precursors (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2769'>Infrared spectroscopy and X-ray diffraction studies on the crystallographic evolution of La2O3 films upon annealing (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID136'>X-ray photoelectron spectroscopy study of energy-band alignments of Lu2O3 on Ge (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1931'>Vibrational and electrical properties of hexagonal La2O3 films (vol 91, art no. 102901, 2007) (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1955'>Degradation kinetics of ultrathin HfO2 layers on Si(100) during vacuum annealing monitored with in situ XPS/LEIS and ex situ AFM (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1956'>Fabrication of GeO2 layers using a divalent Ge precursor (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID123'>Nondestructive diagnostics of high-kappa dielectrics for advanced electronic devices (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1445'>A study of the growth of Lu2O3 on Si(001) by synchrotron radiation photoemission and transmission electron microscopy (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1938'>Innovative dielectrics for semiconductor technology (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1947'>[(Me3Si)(2)N](3)Lu: Molecular structure and use as Lu and Si source for atomic layer deposition of Lu silicate films (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1953'>Atomic layer deposition of magnetic thin films (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2766'>Spectroscopic ellipsometry study of thin NiO films grown on Si (100) by atomic layer deposition (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2767'>Effect of rapid thermal annealing on optical and interfacial properties of atomic-layer-deposited Lu2O3 films on Si (100) (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2770'>Energy band alignment at TiO2/Si interface with various interlayers (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID132179'>Rare earth oxifr thin films  - Growth, characterization, and applications (Monografia o trattato scientifico)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1401)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID185476'>Energy-band diagram of metal/Lu2O3/silicon structures (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID222490'>X-ray absorption spectroscopy study of Yb2O3and Lu2O3 thin films deposited on Si(100) by atomic layer deposition (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li></ul></dd><dt>Rapporto con persona</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/rapportoConCNR/MATRICOLA27669'>Rapporto con CNR di DOTT.SSA GIOVANNA SCAREL</a> (Rapporto con CNR)</li></ul></dd>

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