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					<div id="navpath"><strong>http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA14255</strong> </div>
					<div class="scheda"><h1>GABRIELE SEGUINI</h1>
<dl><dt>Type</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/persone.owl#Persona' class = 'external' >Persona</a> (Classe)</li></ul></dd><dt>Label</dt><dd><ul><li>GABRIELE SEGUINI (literal)</li><li>GABRIELE SEGUINI (literal)</li></ul></dd><dt>Http://www.w3.org/2002/07/owl#sameAs</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID18403'>GABRIELE SEGUINI</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9366'>GABRIELE SEGUINI</a> (Persona)</li></ul></dd><dt>Persona in rapporto</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/rapportoConCNR/MATRICOLA14255'>Rapporto con CNR di DOTT. GABRIELE SEGUINI</a> (Rapporto con CNR)</li></ul></dd><dt>Autore CNR di</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID320897'>Ordering dynamics in symmetric PS-b-PMMA diblock copolymer thin films during rapid thermal processing (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID320900'>Fine Tuning of Lithographic Masks through Thin Films of PS-b-PMMA with Different Molar Mass by Rapid Thermal Processing (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID320929'>High aspect ratio PS-b-PMMA block copolymer masks for lithographic applications. (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID320911'>Fabrication of well-ordered arrays of silicon nanocrystals using a block copolymer mask (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID320918'>Thermally induced orientational flipping of cylindrical phase diblock copolymers (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID233432'>Si surface passivation by Al2O3 thin films deposited using a low thermal budget atomic layer deposition process (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID272321'>On the Thermal Stability of PS-b-PMMA Block and P(S-r-MMA) Random Copolymers for Nanopatterning Applications (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID321129'>Manufacturing self-assembled block copolymer film involves distributing first solution containing block copolymer onto substrate to partially coat substrate surface and self-assembling block copolymer by heating first intermediate product (Brevetto)</a> (Brevetto)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID185476'>Energy-band diagram of metal/Lu2O3/silicon structures (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID327528'>Resistive Switching in High-Density Nanodevices Fabricated by Block Copolymer Self-Assembly (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID272801'>Rapid thermal processing of self-assembling block copolymer thin films (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID124'>Atomic layer deposition of Lu silicate films using [(Me3Si)(2)N](3)Lu (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID36792'>The fabrication of tunable nanoporous oxide surfaces by block copolymer lithography and atomic layer deposition (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID320904'>Evolution of lateral ordering in symmetric block copolymer thin films upon rapid thermal processing (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID259870'>Scaling size of the interplay between quantum confinement and surface related effects in nanostructured silicon (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID36632'>Si nanocrystal synthesis in HfO2/SiO/HfO2 multilayer structures (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID36880'>The energy band alignment of Si nanocrystals in SiO(2) (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID295910'>Solid-state dewetting of ultra-thin Au films on SiO2and HfO2 (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID261044'>Collective behavior of block copolymer thin films within periodic topographical structures (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID261056'>In-plane organization of silicon nanocrystals embedded in SiO2 thin films (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID261051'>Charging phenomena in dielectric/semiconductor heterostructures during x-ray photoelectron spectroscopy measurements (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID261053'>Electronic properties at the oxide interface with silicon and germanium through x-ray induced oxide charging (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID205885'>Atomic layer deposited TiO2 for implantable brain-chip interfacing devices (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID261046'>Surface passivation for ultrathin Al2O3 layers grown at low temperature by thermal atomic layer deposition (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID320894'>Characterization of ultra-thin polymeric films by Gas chromatography-Mass spectrometry hyphenated to thermogravimetry (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID320889'>Silicon crystallization in nanodot arrays organized by block copolymer lithography (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID320913'>ToF-SIMS study of phosphorus diffusion in low-dimensional silicon structures (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID320899'>Thermally induced self-assembly of cylindrical nanodomains in low molecular weight PS-b-PMMA thin films (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID320914'>Flash grafting of functional random copolymers for surface neutralization (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID317445'>Quantification of phosphorus diffusion and incorporation in silicon nanocrystals embedded in silicon oxide (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID135'>Band alignment at the La2Hf2O7/(001)Si interface (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID320892'>Al2O3 passivation on c-Si surfaces for low temperature solar cell applications (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li></ul></dd><dt>Coautore</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27883'>GIULIANA IMPELLIZZERI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27669'>GIOVANNA SCAREL</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA15157'>GIUSEPPE NICOTRA</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID17479'>ALBERTO CARNERA</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID18404'>ANDREA ANDREOZZI</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID17481'>DAVIDE DE SALVADOR</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA10512'>MICHELE PEREGO</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA9774'>ELENA CIANCI</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID19477'>MARCO FANCIULLI</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27655'>CLAUDIA WIEMER</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA15792'>STEFANO BRIVIO</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27784'>SABINA SPIGA</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27391'>ENRICO NAPOLITANI</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27460'>GRAZIELLA TALLARIDA</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA11321'>ALESSANDRO MOLLE</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27787'>EMILIANO BONERA</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27510'>MARCO FANCIULLI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA19930'>ROSARIO CORRADO SPINELLA</a> (Persona)</li></ul></dd><dt>Nome</dt><dd><ul><li>GABRIELE (literal)</li></ul></dd><dt>Cognome</dt><dd><ul><li>SEGUINI (literal)</li></ul></dd><dt>Afferisce a</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/istituto/CDS057'>Istituto per la microelettronica e microsistemi (IMM)</a> (Istituto)</li></ul></dd>

</dl>

<br/><h4>Incoming links:</h4><br/><dl><dt>Coautore</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27784'>SABINA SPIGA</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27787'>EMILIANO BONERA</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27655'>CLAUDIA WIEMER</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27510'>MARCO FANCIULLI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA11321'>ALESSANDRO MOLLE</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA9774'>ELENA CIANCI</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA10512'>MICHELE PEREGO</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA19930'>ROSARIO CORRADO SPINELLA</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27460'>GRAZIELLA TALLARIDA</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27391'>ENRICO NAPOLITANI</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27883'>GIULIANA IMPELLIZZERI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27669'>GIOVANNA SCAREL</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID19477'>MARCO FANCIULLI</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID17481'>DAVIDE DE SALVADOR</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID17479'>ALBERTO CARNERA</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA15157'>GIUSEPPE NICOTRA</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA15792'>STEFANO BRIVIO</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID18404'>ANDREA ANDREOZZI</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22865'>http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22865</a></li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22981'>http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22981</a></li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22760'>http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22760</a></li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22874'>http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22874</a></li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22880'>http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22880</a></li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22872'>http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22872</a></li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22780'>http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID22780</a></li></ul></dd><dt>Ha afferente</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/istituto/CDS057'>Istituto per la microelettronica e microsistemi (IMM)</a> (Istituto)</li></ul></dd><dt>Rapporto con persona</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/rapportoConCNR/MATRICOLA14255'>Rapporto con CNR di DOTT. GABRIELE SEGUINI</a> (Rapporto con CNR)</li></ul></dd><dt>Autore CNR</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID124'>Atomic layer deposition of Lu silicate films using [(Me3Si)(2)N](3)Lu (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID135'>Band alignment at the La2Hf2O7/(001)Si interface (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID36632'>Si nanocrystal synthesis in HfO2/SiO/HfO2 multilayer structures (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID36792'>The fabrication of tunable nanoporous oxide surfaces by block copolymer lithography and atomic layer deposition (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID36880'>The energy band alignment of Si nanocrystals in SiO(2) (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID185476'>Energy-band diagram of metal/Lu2O3/silicon structures (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID205885'>Atomic layer deposited TiO2 for implantable brain-chip interfacing devices (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID233432'>Si surface passivation by Al2O3 thin films deposited using a low thermal budget atomic layer deposition process (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID261046'>Surface passivation for ultrathin Al2O3 layers grown at low temperature by thermal atomic layer deposition (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID272321'>On the Thermal Stability of PS-b-PMMA Block and P(S-r-MMA) Random Copolymers for Nanopatterning Applications (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID259870'>Scaling size of the interplay between quantum confinement and surface related effects in nanostructured silicon (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID261044'>Collective behavior of block copolymer thin films within periodic topographical structures (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a 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(Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID321129'>Manufacturing self-assembled block copolymer film involves distributing first solution containing block copolymer onto substrate to partially coat substrate surface and self-assembling block copolymer by heating first intermediate product (Brevetto)</a> (Brevetto)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID327528'>Resistive Switching in High-Density Nanodevices Fabricated by Block Copolymer Self-Assembly (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li></ul></dd>

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