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					<div class="scheda"><h1>HONG LIANG LU</h1>
<dl><dt>Type</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/persone.owl#Persona' class = 'external' >Persona</a> (Classe)</li></ul></dd><dt>Label</dt><dd><ul><li>HONG LIANG LU (literal)</li><li>HONG LIANG LU (literal)</li></ul></dd><dt>Partecipa a commessa</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/personale-partecipazioneacommessa/unitaDiPersonaleEsterno/ID9342-COMMESSA5201-ANNO2007'>Partecipazione a Commessa "Materiali, processi, e tecniche analitiche per la realizzazione di dispositivi innovativi con funzionalità logiche o di memoria non volatile integrabili su Silicio" (MD.P05.007) di HONG LIANG LU nell'anno 2007</a> (Partecipazione a commessa)</li></ul></dd><dt>Persona in rapporto</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/rapportoConCNR/ID9342'>Rapporto con CNR di HONG LIANG LU</a> (Rapporto con CNR)</li></ul></dd><dt>Autore CNR di</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2768'>Thin MnO and NiO films grown using atomic layer deposition from ethylcyclopentadienyl type of precursors (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2741'>Study of the interfaces in resistive switching MID thin films deposited by both ALD and e-beam coupled with different electrodes (Si, Ni, Pt, W, TiN) (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2738'>Atomic layer deposition of NiO films on Si(100) using cyclopentadienyl-type compounds and ozone as precursors (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2766'>Spectroscopic ellipsometry study of thin NiO films grown on Si (100) by atomic layer deposition (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2767'>Effect of rapid thermal annealing on optical and interfacial properties of atomic-layer-deposited Lu2O3 films on Si (100) (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1953'>Atomic layer deposition of magnetic thin films (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID3964'>Resistance switching in amorphous and crystalline binary oxides grown by electron beam evaporation and atomic layer deposition (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li></ul></dd><dt>Coautore</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9349'>ELENA CIANCI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27510'>MARCO FANCIULLI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27460'>GRAZIELLA TALLARIDA</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27669'>GIOVANNA SCAREL</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA9774'>ELENA CIANCI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9370'>MARCO FANCIULLI</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID19477'>MARCO FANCIULLI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9266'>ROBERTO MANTOVAN</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a 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href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/istituto/CDS110'>Centro di responsabilità scientifica INFM (INFM)</a> (Istituto)</li></ul></dd><dt>Ha pubblicazioni con</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27669'>GIOVANNA SCAREL</a> (Unità di personale interno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleInterno/MATRICOLA27510'>MARCO FANCIULLI</a> (Persona)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9370'>MARCO FANCIULLI</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9268'>MICHELE PEREGO</a> (Unità di personale esterno)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9266'>ROBERTO MANTOVAN</a> (Unità di personale esterno)</li></ul></dd>

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href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/unitaDiPersonaleEsterno/ID9266'>ROBERTO MANTOVAN</a> (Unità di personale esterno)</li></ul></dd><dt>Partecipazione di</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/personale-partecipazioneacommessa/unitaDiPersonaleEsterno/ID9342-COMMESSA5201-ANNO2007'>Partecipazione a Commessa "Materiali, processi, e tecniche analitiche per la realizzazione di dispositivi innovativi con funzionalità logiche o di memoria non volatile integrabili su Silicio" (MD.P05.007) di HONG LIANG LU nell'anno 2007</a> (Partecipazione a commessa)</li></ul></dd><dt>Autore CNR</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2738'>Atomic layer deposition of NiO films on Si(100) using cyclopentadienyl-type compounds and ozone as precursors (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2768'>Thin MnO and NiO films grown using atomic layer deposition from ethylcyclopentadienyl type of precursors (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID1953'>Atomic layer deposition of magnetic thin films (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2741'>Study of the interfaces in resistive switching MID thin films deposited by both ALD and e-beam coupled with different electrodes (Si, Ni, Pt, W, TiN) (Articolo in rivista)</a> (Prodotto della ricerca)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2766'>Spectroscopic ellipsometry study of thin NiO films grown on Si (100) by atomic layer deposition (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID2767'>Effect of rapid thermal annealing on optical and interfacial properties of atomic-layer-deposited Lu2O3 films on Si (100) (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/ID3964'>Resistance switching in amorphous and crystalline binary oxides grown by electron beam evaporation and atomic layer deposition (Articolo in rivista)</a> (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)</li></ul></dd><dt>Rapporto con persona</dt><dd><ul><li><a href='http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/rapportoConCNR/ID9342'>Rapporto con CNR di HONG LIANG LU</a> (Rapporto con CNR)</li></ul></dd>

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