LUCA MAIOLO
- Type
- Persona (Classe)
- Label
- LUCA MAIOLO (literal)
- LUCA MAIOLO (literal)
- Partecipa a commessa
- Partecipazione a Commessa "Dispositivi per elettronica di larga area" (MD.P05.001) di LUCA MAIOLO nell'anno 2006 (Partecipazione a commessa)
- Partecipazione a Commessa "Dispositivi per elettronica di larga area" (MD.P05.001) di LUCA MAIOLO nell'anno 2005 (Partecipazione a commessa)
- Persona in rapporto
- Rapporto con CNR di LUCA MAIOLO (Rapporto con CNR)
- Autore CNR di
- Low-temperature electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical-vapor deposition silicon dioxide as gate insulator for polycrystalline silicon thin-film transistors (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Silicon dioxide deposite d by ECR-PECVD for low-temperature Si devices (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)
- Coautore
- ALESSANDRO PECORA (Persona)
- LUIGI MARIUCCI (Unità di personale interno)
- GUGLIELMO FORTUNATO (Persona)
- MASSIMO CUSCUNA' (Persona)
- Nome
- LUCA (literal)
- Cognome
- MAIOLO (literal)
- Afferisce a
- Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN) (Istituto)
Incoming links:
- Coautore
- ALESSANDRO PECORA (Persona)
- GUGLIELMO FORTUNATO (Persona)
- LUIGI MARIUCCI (Unità di personale interno)
- MASSIMO CUSCUNA' (Persona)
- Ha afferente
- Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN) (Istituto)
- Partecipazione di
- Partecipazione a Commessa "Dispositivi per elettronica di larga area" (MD.P05.001) di LUCA MAIOLO nell'anno 2005 (Partecipazione a commessa)
- Partecipazione a Commessa "Dispositivi per elettronica di larga area" (MD.P05.001) di LUCA MAIOLO nell'anno 2006 (Partecipazione a commessa)
- Http://www.w3.org/2002/07/owl#sameAs
- Rapporto con persona
- Rapporto con CNR di LUCA MAIOLO (Rapporto con CNR)
- Autore CNR
- Low-temperature electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical-vapor deposition silicon dioxide as gate insulator for polycrystalline silicon thin-film transistors (Articolo in rivista) (Prodotto della ricerca)
- Silicon dioxide deposite d by ECR-PECVD for low-temperature Si devices (Articolo in rivista) (http://www.cnr.it/ontology/cnr/individuo/prodotto/TIPO1101)