Growth and characterization of Si nanodot multilayers in SiC matrix (Contributo in atti di convegno)

Type

• Prodotto della ricerca (Classe)
• Contributo in atti di convegno (Classe)

Label

• Growth and characterization of Si nanodot multilayers in SiC matrix (Contributo in atti di convegno) (literal)

Anno

• 2008-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#doi

• 10.4229/23rdEUPVSEC2008-1DV.2.55 (literal)

Alternative label

• Summonte C, Mirabella S, Balboni R, Desalvo A, Crupi I, Simone F, Terrasi A, (2008)
  Growth and characterization of Si nanodot multilayers in SiC matrix
  in 23rd European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition, Valencia, Spain, 1-5 September 2008,
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• Summonte C, Mirabella S, Balboni R, Desalvo A, Crupi I, Simone F, Terrasi A, (literal)

Pagina inizio

• 730 (literal)

Pagina fine

• 733 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#url

• http://www.eupvsec-proceedings.com/proceedings?advanced[title]=&advanced[date]=&advanced[author]=mirabella&advanced[keyword]=&paper=3541 (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• CNR-IMM (literal)

Titolo

• Growth and characterization of Si nanodot multilayers in SiC matrix (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#isbn

• 3-936338-24-8 (literal)

Abstract

• Preliminary experimental results on the fabrication and characterization of Si nanodot multilayers embedded in SiC matrix are presented. Nanometric Si crystals are obtained by thermal annealing of hydrogenated SiCx/SiC multilayers deposited by PECVD onto (001) Si and fused quartz substrates. The samples have been investigated by Transmission Electron Microscopy, Scanning Electron Microscopy, X-ray diffraction, IR optical absorption and UV-VIS-near IR transmittance. Although Si nano-dots formation requires high temperature thermal annealing, we show as the initial low temperature thermal annealing for H out-diffusion is a critical step of the fabrication process. (literal)

Prodotto di

• Sviluppo di tecnologie e realizzazione di dispositivi e microsistemi fotonici, fluidici e meccanici (MD.P05.011.001) (Modulo)
• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)

Autore CNR

• CATERINA SUMMONTE (Persona)
• ROBERTO BALBONI (Unità di personale interno)
• SALVATORE MIRABELLA (Unità di personale interno)
• ISODIANA CRUPI (Unità di personale interno)
• AGOSTINO DESALVO (Persona)

Incoming links:

Autore CNR di

• ROBERTO BALBONI (Unità di personale interno)
• ISODIANA CRUPI (Unità di personale interno)
• CATERINA SUMMONTE (Persona)
• SALVATORE MIRABELLA (Unità di personale interno)
• AGOSTINO DESALVO (Persona)

Prodotto

• Institute for microelectronics and microsystems (IMM) (Istituto)
• Sviluppo di tecnologie e realizzazione di dispositivi e microsistemi fotonici, fluidici e meccanici (MD.P05.011.001) (Modulo)