Silicon Carbide thin films deposited with PVD techniques with a stoichiometry Si:C close to 1:1 (Contributo in atti di convegno)

Type

• Contributo in atti di convegno (Classe)
• Prodotto della ricerca (Classe)

Label

• Silicon Carbide thin films deposited with PVD techniques with a stoichiometry Si:C close to 1:1 (Contributo in atti di convegno) (literal)

Anno

• 2009-01-01T00:00:00+01:00 (literal)

Alternative label

• G. Monaco, M. Suman, M.G. Pelizzo, P. Nicolosi (2009)
  Silicon Carbide thin films deposited with PVD techniques with a stoichiometry Si:C close to 1:1
  in DGaO
  (literal)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#autori

• G. Monaco, M. Suman, M.G. Pelizzo, P. Nicolosi (literal)

Rivista

• DGaO proceedings (Rivista)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#affiliazioni

• Universita' di Padova, CNR-IFN (literal)

Titolo

• Silicon Carbide thin films deposited with PVD techniques with a stoichiometry Si:C close to 1:1 (literal)

Prodotto di

• Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN) (Istituto)
• MD.P03.010.001 Sviluppo di strumentazione ottica e fotonica (Vis-UV-XUV-X) per impieghi scientifici (spaziali e radiazione di sincrotrone) ed industriali (MD.P03.010.002) (Modulo)

Autore CNR

• PIERGIORGIO NICOLOSI (Persona)
• MARIA GUGLIELMINA PELIZZO (Persona)

Incoming links:

Prodotto

• Istituto di fotonica e nanotecnologie (IFN) (Istituto)
• MD.P03.010.001 Sviluppo di strumentazione ottica e fotonica (Vis-UV-XUV-X) per impieghi scientifici (spaziali e radiazione di sincrotrone) ed industriali (MD.P03.010.002) (Modulo)

Autore CNR di

• MARIA GUGLIELMINA PELIZZO (Persona)
• PIERGIORGIO NICOLOSI (Persona)

Http://www.cnr.it/ontology/cnr/pubblicazioni.owl#rivistaDi

• DGaO proceedings (Rivista)